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      硅外延層過渡區(qū)的無損檢測方法
      
					
      
					     916  
					    編輯：管理員  
						來源：中冶有色技術網  
						
      
							2023-03-19 08:57:50						
      
					
      
				
      
				
      
				    本發(fā)明公開了一種硅外延層過渡區(qū)的無損檢測方法，屬于硅外延生長技術領域。本發(fā)明的方法包括下述步驟：（1）生長前利用電容位移傳感器的方法先測量硅襯底片總厚度Tsub；（2）將硅襯底片外延生長，取片后利用紅外膜厚測試儀測量硅外延層厚度Tepi，測量位置和外延前測量硅襯底片厚度的位置相對應；（3）然后利用電容位移傳感器測量外延后的硅片的總厚度Ttot，其測量位置和硅襯底片測量厚度的位置相對應；（4）利用公式:(硅襯底片總厚度Tsub+硅外延層厚度Tepi)–外延后硅片的總厚度Ttot，得到過渡區(qū)長度。本發(fā)明的方法具有無損、準確率高、檢測速度快的優(yōu)點。				    
      
				        
      聲明：
      
				        
      
				         “硅外延層過渡區(qū)的無損檢測方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。
				        
      
				        
      
				        我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
				        
      
				    
      
				
      
				
				
      
					
      
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      標簽：
      
					 
					無損檢測
									
      
				
				
				
				
								
								
				
				
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