近日,正泰新能的ASTRO N7產(chǎn)品在國(guó)際權(quán)威機(jī)構(gòu)RETC的UVID220測(cè)試中表現(xiàn)卓越,衰減率竟然低于2%,這是個(gè)好消息。這不僅證明了正泰新能產(chǎn)品的抗UVID性能,還顯示了其高可靠性。
今年RETC在《2024光伏組件指數(shù)報(bào)告》中對(duì)UVID問(wèn)題發(fā)出警告后,行業(yè)內(nèi)對(duì)組件的UVID性能關(guān)注度直線上升。正泰新能的ASTRO N7在UV220輻射等級(jí)下的表現(xiàn),比常規(guī)UV15認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)強(qiáng)了15倍,衰減率還這么低,真是通過(guò)了一項(xiàng)嚴(yán)峻的考驗(yàn)。
在送測(cè)RETC之前,正泰新能已經(jīng)對(duì)全系產(chǎn)品進(jìn)行了UVID性能測(cè)試,結(jié)果同樣令人滿意。ASTRO N系列在UV60輻射等級(jí)下衰減率只有0.7%,在UV120的條件下也僅有1.2%,這顯示了我們產(chǎn)品的穩(wěn)定性。
正泰新能的ASTRO N系列之所以有這么出色的抗UVID性能,是因?yàn)檎┬履茉陔姵剽g化膜層結(jié)構(gòu)優(yōu)化和整體組件封裝設(shè)計(jì)上下了大功夫。正泰新能注重每一個(gè)提升產(chǎn)品可靠性的細(xì)節(jié),確保產(chǎn)品的每一個(gè)部分都經(jīng)得起考驗(yàn)。
在電池膜層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上,正泰新能采用了行業(yè)領(lǐng)先的薄膜沉積技術(shù),能夠精準(zhǔn)控制電池鈍化膜層的均勻性和致密性。結(jié)合LIF工藝,有效增強(qiáng)了膜層對(duì)紫外線的耐受度,從根本上改善了UVID問(wèn)題。在封裝材料上,我們選擇了更高可靠性的膠膜封裝方案,進(jìn)一步降低了衰減風(fēng)險(xiǎn)。
正泰新能的質(zhì)量檢測(cè)體系非常嚴(yán)格,貫穿于組件生產(chǎn)的全流程。從原材料檢驗(yàn)到成品抽檢,實(shí)行100% AI檢測(cè),確保每一個(gè)步驟都符合最高標(biāo)準(zhǔn),不放過(guò)任何可能影響產(chǎn)品可靠性的瑕疵。