超細(xì)粉體膠體磨,超細(xì)粉體研磨設(shè)備,納米粉體膠體磨,超細(xì)粉體研磨機(jī),超細(xì)粉體高速剪切膠體磨,納米膠體磨,超細(xì)膠體磨超細(xì)粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題,其應(yīng)用日益廣泛,如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率不可缺少,而且是十分重要的技術(shù)手段。
但是由于超細(xì)粉體粒度小,極易產(chǎn)生自發(fā)凝并,表現(xiàn)出強(qiáng)烈的聚團(tuán)特性,不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體,聚團(tuán)的結(jié)果導(dǎo)致超細(xì)粉體材料性能的嚴(yán)重劣化。另一方面,在
復(fù)合材料的制備過程中,由于超細(xì)粉體的這種強(qiáng)烈團(tuán)聚特性和它與復(fù)合基體材料的極性差異,超細(xì)粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復(fù)合材料,是復(fù)合材料的性能難以達(dá)到人們預(yù)期的效果。 所以為了解決這一問題,各種類型的分散設(shè)備應(yīng)運(yùn)而生,粉體的分散、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個目的。其一是使團(tuán)聚粉體的碎解和分散,盡力使團(tuán)聚粉體達(dá)到單粉體分散;其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻,而在使用時需要性能均一的粉體材料,為了消除各部分性能上的差異,需要對粉體材料進(jìn)行分散、混合與均化處理;其三是,有些粉體材料需要進(jìn)行改性處理,為了保證改性處理的均一性,也需要進(jìn)行分散、混合與均化處理。膠體磨MK2000系列特別適合于膠體溶液、超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,MK在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。MK2000整機(jī)采用幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
高剪切膠體磨運(yùn)行原理:
高剪切膠體磨在電動機(jī)的高速轉(zhuǎn)動下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū),通過一種特殊粉碎裝置,將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎 區(qū),在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。在機(jī)械運(yùn)動和離心力的作用下,將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎。精磨區(qū)分三級,越向外延伸一級磨片精度越高,齒距越小,線速度越長,物料越磨越細(xì),同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化,并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強(qiáng)烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等,在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后,從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細(xì)化的目的。液料的小細(xì)度可達(dá)0.5um。
IKA膠體磨結(jié)構(gòu):
三道磨碎區(qū):一級為粗磨碎區(qū),二級為細(xì)磨碎區(qū),三級為超微磨碎區(qū)。
我們的磨頭的結(jié)構(gòu):溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨,而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
MK2000系列的特點(diǎn):
1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
2、齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。
3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
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