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      > 半導(dǎo)體用超高純金屬濺射靶材

      半導(dǎo)體用超高純金屬濺射靶材

      半導(dǎo)體用超高純金屬濺射靶材

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      規(guī)格/型號:半導(dǎo)體用超高純金屬濺射靶材
      品牌:暫無
      應(yīng)用領(lǐng)域:暫無
      產(chǎn)地:浙江 - 寧波
      咨詢電話::暫無(請說明信息源自“中冶有色技術(shù)網(wǎng)”)
      更新時間:2021-11-09
      級別:已認證

      半導(dǎo)體用超高純金屬濺射靶材說明介紹

      簡介 高純鋁以及鋁合金靶材: 1、產(chǎn)品包括:Al、Al30ppmSi,、Al0.5Si、Al0.75Si、Al0.8Si、Al1Si、Al0.5Cu、AlSiCu等; 2、純度為4N~5N5; 3、不同的晶粒晶向滿足客戶的不同濺射需求; 4、能夠和客戶一起開發(fā)特制的各種類型長壽命靶材。 高純鈦靶材以及鈦環(huán): 1、產(chǎn)品包括:4N5鈦、5N鈦、低氧鈦等; 2、不同的晶粒晶向滿足客戶的不同濺射需求; 3、能夠為客戶提供不同類型特制的長壽命靶材和環(huán)件。 高純銅、銅合金靶材以及銅環(huán)、銅陽極: 1、產(chǎn)品包括:4N銅、4N5銅、5N銅、6N銅以及銅鋁、銅錳等合金靶材、純銅以及CuP陽極材料、純銅
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