主要功能
1. 缺陷檢測與分類
2. 缺陷分析
3. 薄膜厚度測量
4. 表面粗糙度測量
5. 薄膜應力檢測
技術特點
1. 單次掃描中結合四種光學檢測方法的單機解決方案,可實現(xiàn)高效的自動化缺陷檢測與分離;
2. 對LED材料的缺陷進行自動檢測,從而增強襯底的質量管控,迅速確定造成缺陷的根本原因并改進MOCVD品質管控能力;
3. 滿足多種工業(yè)要求,包括高亮度發(fā)光二較為管(HBLED),高功率射頻電子器件,透明玻璃基板等技術;
4. 在多個半導體材料系統(tǒng)中能更靈敏的檢測影響產(chǎn)品良率的缺陷。
5. 自動缺陷分類功能(Auto Defect Classification)
(Particle, Scratch, Pit, Bump, and Stain Detection)
6. 自動生成缺陷mapping。
技術能力
1. 檢測缺陷尺寸>0.3μm;
2. 大樣品尺寸:8 inch Wafer;
3. 超過30種DOI的缺陷分類。
應用案例1. 透明/非透明材質表面缺陷檢測
2. MOCVD外延生長成膜缺陷管控
3. PR膜厚均一性評價
4. Clean制程清洗效果評價
5. Wafer在CMP后表面缺陷分析