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      > 光學(xué)輪廓儀/缺陷檢測(cè)儀

      光學(xué)輪廓儀/缺陷檢測(cè)儀

      光學(xué)輪廓儀/缺陷檢測(cè)儀

      4503
      規(guī)格/型號(hào):Zeta-20/Zeta300型
      品牌:KLA-Tencor / KLA
      應(yīng)用領(lǐng)域:分析檢測(cè)
      產(chǎn)地:上海 - 上海
      廠家/供應(yīng)商:納瑟(上海)納米科技有限公司
      咨詢電話::18621896399(請(qǐng)說明信息源自“中冶有色技術(shù)網(wǎng)”)
      更新時(shí)間:2023-05-16
      級(jí)別:待認(rèn)證

      光學(xué)輪廓儀/缺陷檢測(cè)儀說明介紹

      光學(xué)輪廓儀

      Zeta-20/Zeta300型-光學(xué)輪廓儀/缺陷檢測(cè)儀


      光學(xué)輪廓儀/白光干涉儀/Zeta-300 Optical ProfilerZeta-300支持3D量測(cè)和成像的功能,并提供整合隔離工作臺(tái)和靈活的配置,可用于處理更大的樣品。該系統(tǒng)采用ZDot?技術(shù),可同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color(真彩)無限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像。Zeta-300具備Multi-Mode(多模式)光學(xué)系統(tǒng)、簡(jiǎn)單易用的軟件、以及低擁有成本,適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。


      光學(xué)輪廓儀/白光干涉儀/Zeta-300 Optical Profiler


      Zeta-300支持3D量測(cè)和成像的功能,并提供整合隔離工作臺(tái)和靈活的配置,可用于處理更大的樣品。該系統(tǒng)采用ZDot?技術(shù),可同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color(真彩)無限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像。Zeta-300具備Multi-Mode(多模式)光學(xué)系統(tǒng)、簡(jiǎn)單易用的軟件、以及低擁有成本,適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。

      產(chǎn)品描述

      Zeta-300光學(xué)輪廓儀是一種非接觸式3D表面形貌測(cè)量系統(tǒng)。 Zeta-300繼承了Zeta-20的功能,并增加了隔離選項(xiàng)以及處理更大樣品的靈活性。 該系統(tǒng)采用ZDot?技術(shù)和Multi-Mode (多模式)光學(xué)系統(tǒng),可以對(duì)各種不同的樣品進(jìn)行測(cè)量:透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的紋理,以及納米至毫米級(jí)別的臺(tái)階高度。

      Zeta-300的配置靈活并易于使用,并集合了六種不同的光學(xué)量測(cè)技術(shù)。ZDot?測(cè)量模式可同時(shí)收集高分辨率3D掃描和True Color無限遠(yuǎn)焦距圖像。其他3D測(cè)量技術(shù)包括白光干涉測(cè)量、Nomarski干涉對(duì)比顯微鏡和剪切干涉測(cè)量。ZDot或集成寬帶反射計(jì)都可以對(duì)薄膜厚度進(jìn)行測(cè)量。Zeta-300也是一種高端顯微鏡,可用于樣品復(fù)檢或自動(dòng)缺陷檢測(cè)。 Zeta-300通過提供全面的臺(tái)階高度、粗糙度和薄膜厚度的測(cè)量以及缺陷檢測(cè)功能,適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。

      主要功能

      · 采用ZDot和Multi-Mode(多模式)光學(xué)器件的簡(jiǎn)單易用的光學(xué)輪廓儀,具有廣泛的應(yīng)用

      · 可用于樣品復(fù)檢或缺陷檢測(cè)的高質(zhì)量顯微鏡

      · ZDot:同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color(真彩)無限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像

      · ZXI:白光干涉測(cè)量技術(shù),適用于z向分辨率高的廣域測(cè)量

      · ZIC:干涉對(duì)比度,適用于亞納米級(jí)別粗糙度的表面并提供其3D定量數(shù)據(jù)

      · ZSI:剪切干涉測(cè)量技術(shù)提供z向高分辨率圖像

      · ZFT:使用集成寬帶反射計(jì)測(cè)量膜厚度和反射率

      · AOI:自動(dòng)光學(xué)檢測(cè),并對(duì)樣品上的缺陷進(jìn)行量化

      · 生產(chǎn)能力:通過測(cè)序和圖案識(shí)別實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量

      主要應(yīng)用

      · 臺(tái)階高度:納米到毫米級(jí)別的3D臺(tái)階高度

      · 紋理:平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度

      · 外形:3D翹曲和形狀

      · 應(yīng)力:2D薄膜應(yīng)力

      · 薄膜厚度:30nm到100μm透明薄膜厚度

      · 缺陷檢測(cè):捕獲大于1μm的缺陷

      · 缺陷復(fù)檢:采用KLARF文件作為導(dǎo)航以測(cè)量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置

      工業(yè)應(yīng)用

      · LED:發(fā)光二極管和PSS(圖案化藍(lán)寶石基板)

      · 半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體

      · 半導(dǎo)體 WLCSP(晶圓級(jí)芯片級(jí)封裝)

      · 半導(dǎo)體FOWLP(扇出晶圓級(jí)封裝)

      · PCB和柔性PCB

      · MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))

      · 醫(yī)療設(shè)備和微流體設(shè)備

      · 數(shù)據(jù)存儲(chǔ)

      · 大學(xué),研究實(shí)驗(yàn)室和研究所

      · 還有更多:請(qǐng)與我們聯(lián)系以滿足您的要求

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      納瑟(上海)納米科技有限公司
      企業(yè)認(rèn)證:
        
      所屬領(lǐng)域:
      分析檢測(cè)
      企業(yè)性質(zhì):
      -
      經(jīng)營(yíng)范圍:
      -
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