高溫真空管式爐 12546     

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LFT1600C 300D80高溫真空管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。優(yōu)質(zhì)硅鉬棒為加熱元件，爐管使用能耐較高溫度高純氧化鋁管，適合較高溫度條件下材料燒結(jié)處理，是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對(duì)金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設(shè)備。

低真空系統(tǒng) 9571     

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LVU-10是一套低真空系統(tǒng)，其極限真空度為10-1Pa， 內(nèi)部安裝有雙級(jí)旋片機(jī)械泵BSV-10配套使用，其接口為KF25，并配有真空連接管路一套，電阻真空計(jì)ZDR-I和連接管道接頭等。

雙溫區(qū)真空管式爐 8744     

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LFT-1200C 400D60II 雙溫區(qū)開啟式真空管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進(jìn)口加熱電阻絲鑲嵌延長(zhǎng)爐體使用壽命，是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對(duì)金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設(shè)備。

高真空系統(tǒng) 9596     

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環(huán)境溫度：5~32℃ 空氣相對(duì)濕度：≤85% 工作電壓：AC220V±10% 50/60HZ 系統(tǒng)整體極限真空度：5.0×10-5Pa 實(shí)驗(yàn)真空度：5.0×10-3Pa 連接管路：采用全不銹鋼，電拋光制作，零件焊接漏率優(yōu)于1.0×10-9Pa.m3/s 外形尺寸600*600*700mm

箱式爐 8968     

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箱式爐是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質(zhì)量氧化鋁微晶體纖維材料，最高溫度能達(dá)到1200℃ 。該款設(shè)備廣泛用于先進(jìn)陶瓷（科齒、骨骼等）、電子陶瓷(PTC、NTC、MLCC等)、電子元件、磁性材料、納米粉體材料等產(chǎn)品的排膠、預(yù)燒和燒成，也可用于汽車配件熱處理等諸多領(lǐng)域。 （1）保溫材料采用真空吸附成型的氧化鋁纖維無機(jī)材料，環(huán)保節(jié)能。 （2）采用模糊PID控制，控溫精度可達(dá)±1℃。 （3）爐體采用雙層風(fēng)冷機(jī)構(gòu)，爐子燒到最高溫度時(shí)，殼體表面溫度低于60℃。 （4）采用多種保溫材料組成，能耗小。

4通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng) 5834     

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MFC-4Z是一款4路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里，移動(dòng)柜最大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí)，可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。各通道氣路的流量設(shè)定和狀態(tài)顯示都集中在一個(gè)7"的觸摸屏上，同時(shí)可以實(shí)時(shí)查看氣體流量曲線和數(shù)據(jù)。此款設(shè)備廣泛的用于材料界中CVD實(shí)驗(yàn)和各種材料的退火實(shí)驗(yàn)。

單工位封管機(jī) 11250     

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主要特點(diǎn)： 1、石英管與內(nèi)置石英柱高溫熔接，標(biāo)準(zhǔn)化處理，重復(fù)性好。 2、石英管配合動(dòng)密封系統(tǒng)自動(dòng)旋轉(zhuǎn)，操作簡(jiǎn)單，受熱均勻。 3、真空系統(tǒng)配備旁抽裝置，避免粉末材料進(jìn)入真空泵，延長(zhǎng)真空泵使用壽命。 氫氧機(jī)采用電解水產(chǎn)氣，即產(chǎn)即用，安全系數(shù)高。 該設(shè)備為標(biāo)準(zhǔn)化操作，即學(xué)即用，簡(jiǎn)單方便。

單溫區(qū)回轉(zhuǎn)真空管式爐 2022     

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該設(shè)備主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面生長(zhǎng)，該回轉(zhuǎn)加熱系統(tǒng)集控制系統(tǒng)與爐膛為一體，爐膛使用高純氧化鋁纖維材料，采用進(jìn)口電阻絲為加熱元件，爐膛結(jié)構(gòu)可上下開啟，方便觀察石英管以及物料的狀態(tài)。異型石英管貫穿于爐體中間，爐管兩端采用不銹鋼法蘭密封，進(jìn)出氣口使用旋轉(zhuǎn)接頭連接，使攪拌過程順暢。物料翻轉(zhuǎn)順暢。 粉末狀材料在管中加熱，加熱絲均勻分布于爐管四周，確保良好的溫場(chǎng)均勻性。測(cè)溫采用性能穩(wěn)定、長(zhǎng)壽命（適于中高溫檢測(cè)）的“K”型熱電偶，以提高控溫的精確性。

單溫區(qū)高溫高壓管式爐 3154     

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該設(shè)備設(shè)計(jì)為雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，使用時(shí)表面溫度＜60℃，爐膛采用氧化鋁纖維，加熱元件內(nèi)嵌于保溫層內(nèi)，使用壽命長(zhǎng)，爐管工件橫穿于上下共8組進(jìn)口電阻絲的爐膛，溫場(chǎng)均勻。其開啟式結(jié)構(gòu)使得拆裝爐管方便，操作簡(jiǎn)捷。LFT1200C 440D60HV系列高溫高壓真空管式爐設(shè)備設(shè)計(jì)為耐高溫金屬爐管，該設(shè)備容許在高溫高壓或者高真空條件下使用，最高工作氣壓可達(dá)5.5Mpa(≤800℃)，0.9Mpa（≤1100℃）。該設(shè)備使用電阻絲為加熱元件，加熱絲均勻分布于爐管四周，溫度均勻。配備金屬爐管最高可達(dá)900-1100℃（不同溫度條件下所配爐管材質(zhì)不同）。

井式爐 9075     

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此設(shè)備是集控制系統(tǒng)與爐膛為一體,爐膛是使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，最高發(fā)熱溫度可達(dá)1200℃。采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，配有風(fēng)冷系統(tǒng)，使得殼體表面的溫度小于60度。爐膛材料采用高純氧化鋁多晶纖維，保溫耐用，高效節(jié)能50%。 專為高等院校、科研所及工礦企業(yè)對(duì)金屬，飛金屬及其他化合物料在氣氛或真空狀態(tài)下進(jìn)行快速燒結(jié)、融化、分析而研制的專用設(shè)備。

真空氣氛箱式爐 2487     

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應(yīng)用：采用雙層殼體機(jī)構(gòu)，爐膛使用氧化鋁多晶纖維材料，廣泛應(yīng)用于材料金屬在低真空、還原性、保護(hù)性氣氛下的熱處理，也可用于特殊材料的熱處理，如碳制品的碳化工藝。 特點(diǎn)：爐門口安裝有水冷系統(tǒng)，氣體經(jīng)過流量計(jì)進(jìn)入爐內(nèi)，并有多處洗爐膛進(jìn)氣口、出氣口有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮?dú)狻⒀鯕?、一氧化碳等氣體。真快度可達(dá)10pa，具有溫差均勻，表面溫度低，升降溫速度快，節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，溫控系統(tǒng)采用進(jìn)口多段智能程序溫度控制儀表控制。

等離子清洗機(jī) 2848     

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此設(shè)備具有性價(jià)比高、性能穩(wěn)定、操作簡(jiǎn)便、成本低、便于操作維護(hù)的特點(diǎn)?？梢栽O(shè)置功率為低、中、高級(jí)別，對(duì)各種不規(guī)整幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和改性，完全徹底地清除樣品表面的有機(jī)污染物。同時(shí)也可以在常溫條件下進(jìn)行超清洗，對(duì)樣品非破壞性處理。

提拉爐 1866     

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提拉爐采用硅鉬棒進(jìn)行加熱，專門設(shè)計(jì)針對(duì)于材料在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下對(duì)材料進(jìn)行燒結(jié)，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，使得殼體表面溫度小于65℃，高純度氧化鋁纖維作為爐膛保溫材料。主要應(yīng)用領(lǐng)域如單晶生長(zhǎng)，碳納米管生長(zhǎng)，陶瓷燒結(jié)退火等。

高溫高壓爐 1862     

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高溫高壓爐，爐管采用鎳基合金鋼管，具有較高蠕變強(qiáng)度和抗氧化性。密封圈為金屬無氧銅密封圈，可以在高溫狀態(tài)下通入氧氣和水蒸氣。設(shè)備上裝有壓力傳感器和電磁閥，當(dāng)壓力傳感器檢測(cè)到內(nèi)部壓力大于所設(shè)定的壓力時(shí)通過信號(hào)傳送至高壓電磁閥，電磁閥打開釋放出多余壓力，以達(dá)到設(shè)定的壓力。

1600真空氣氛箱式爐 2515     

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應(yīng)用：采用雙層殼體機(jī)構(gòu)，爐膛使用氧化鋁多晶纖維材料，廣泛應(yīng)用于材料金屬在低真空、還原性、保護(hù)性氣氛下的熱處理，也可用于特殊材料的熱處理，如碳制品的碳化工藝。 特點(diǎn)：爐門口安裝有水冷系統(tǒng)，氣體經(jīng)過流量計(jì)進(jìn)入爐內(nèi)，并有多處洗爐膛進(jìn)氣口、出氣口有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮?dú)?、氧氣、一氧化碳等氣體。真快度可達(dá)10pa，具有溫差均勻，表面溫度低，升降溫速度快，節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，溫控系統(tǒng)采用進(jìn)口多段智能程序溫度控制儀表控制。

多工位真空管式爐 2459     

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此款多工位真空管式爐爐體可作0~180度旋轉(zhuǎn)，多工位操作滿足客戶不同的實(shí)驗(yàn)需求。其采用電阻絲作為發(fā)熱元件，額定溫度1100℃，采用K型熱電偶測(cè)溫和雙向可控硅智能化程序控溫，具有較高的控溫精度(土1℃)。 此外該爐具有真空裝置，可在不同工作角度和多種氣氛下工作，大大提高了其使用范圍。該爐具有使用溫度高、高精度控溫、操作簡(jiǎn)單、維修方便等優(yōu)點(diǎn)，可廣泛用于冶金、機(jī)械、輕工、商檢、高等院校及科研部門。

單工位封管機(jī) 3116     

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該系列真空封管機(jī)/系統(tǒng)主要用于實(shí)現(xiàn)樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，整套系統(tǒng)由真空封管機(jī)、氫氧機(jī)、真空泵、石英管、連接接頭等組成、標(biāo)準(zhǔn)化定制石英管和石英柱保證其余特殊設(shè)計(jì)的管接頭精確匹配，從而進(jìn)一步提升石英管的密封性、實(shí)現(xiàn)更高標(biāo)準(zhǔn)的真空封管。

高溫真空管式爐 1662     

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LFT1700C 700D80高溫真空管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。優(yōu)質(zhì)硅鉬棒為加熱元件，爐管使用能耐較高溫度高純氧化鋁管，適合較高溫度條件下材料燒結(jié)處理，是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對(duì)金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設(shè)備。

氫氣光亮退火爐 2077     

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設(shè)備描述： 該設(shè)備為1400系列高溫管式爐，加熱元件采用優(yōu)質(zhì)硅碳棒，最高溫度可達(dá)1500℃。（配套金屬管使用時(shí)，使用溫度需相應(yīng)降低。）爐管外徑為150mm，適合較大樣品的熱處理，保溫材料采用進(jìn)口高純氧化鋁纖維材料制成，具有保溫性能好，質(zhì)量輕等優(yōu)勢(shì)。爐管采用單端封口方式，取放樣從一段操作，操作方便。

高溫真空管式爐 1637     

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LFT1700C 300D60高溫真空管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。優(yōu)質(zhì)硅鉬棒為加熱元件，爐管使用能耐較高溫度高純氧化鋁管，適合較高溫度條件下材料燒結(jié)處理，是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對(duì)金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設(shè)備。

高溫真空管式爐 2099     

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LFT1700C 800D80IV高溫真空管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。優(yōu)質(zhì)硅鉬棒為加熱元件，爐管使用能耐較高溫度高純氧化鋁管，適合較高溫度條件下材料燒結(jié)處理，是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對(duì)金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設(shè)備。

箱式爐 1613     

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設(shè)備特點(diǎn)： 1、保溫材料采用真空吸附成型的氧化鋁纖維無機(jī)材料，環(huán)保節(jié)能，不含污物，潔凈，美觀； 2、采用模糊PID控制，智能PID精準(zhǔn)控制,溫場(chǎng)均勻，燒結(jié)成品一致性； 3、爐體采用雙層風(fēng)冷機(jī)構(gòu)，爐子燒到最高溫度時(shí)，殼體表面溫度低于60度； 4、用多種保溫材料組合制成，使?fàn)t子體積小，能量消耗少（耗電量是同類產(chǎn)品耗電量的四分之一）。

1200高溫箱式爐帶石英觀察窗 2027     

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設(shè)備特點(diǎn)： 1、保溫材料采用真空吸附成型的氧化鋁纖維無機(jī)材料，環(huán)保節(jié)能，不含污物，潔凈，美觀； 2、采用模糊PID控制，智能PID精準(zhǔn)控制,溫場(chǎng)均勻，燒結(jié)成品一致性； 3、爐體采用雙層風(fēng)冷機(jī)構(gòu)，爐子燒到最高溫度時(shí)，殼體表面溫度低于60度； 4、用多種保溫材料組合制成，使?fàn)t子體積小，能量消耗少（耗電量是同類產(chǎn)品耗電量的四分之一）。 5、爐體的正面、左側(cè)以及頂部安裝石英觀察窗，以便觀察樣品在實(shí)驗(yàn)過程中的狀態(tài)。

1200開啟式真空管式爐 2063     

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LFT-1200C 600D130單溫區(qū)開啟式真空管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。進(jìn)口加熱電阻絲鑲嵌延長(zhǎng)爐體使用壽命，是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對(duì)金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設(shè)備。

1200管式爐配預(yù)熱爐 2008     

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LFT-1200C 400D50單溫區(qū)開啟式真空管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進(jìn)口加熱電阻絲鑲嵌延長(zhǎng)爐體使用壽命，是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對(duì)金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行燒結(jié)、熔化、分析而研制的專用理想設(shè)備。設(shè)備配置預(yù)熱爐，可用來預(yù)熱S粉等方便低蒸發(fā)溫度點(diǎn)材料的蒸發(fā)時(shí)間和溫度的控制。

熱壓爐 1354     

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熱壓方法的最大優(yōu)點(diǎn)是可以大大降低成形壓力和縮短燒結(jié)時(shí)間，可以制得密度高和晶粒極細(xì)的材料，該設(shè)備可將壓制和燒結(jié)兩個(gè)工序一并完成， 可以在較低壓力下迅速獲得冷壓燒結(jié)所達(dá)不到的密度，從這個(gè)意義上說，熱壓是種強(qiáng)化燒結(jié)。凡是用一般方法能制得的粉末零件，都適于用熱壓方法制造，尤其適于制造全致密難熔金屬及其化合物等材料。 開啟式立式爐，爐管法蘭可繞軸旋轉(zhuǎn)一出爐腔，標(biāo)配Φ100mm石英管真空密封，20T電動(dòng)壓力系統(tǒng)，采用石墨項(xiàng)桿和石墨模(特別定制)，在加壓的間時(shí)使粉末加熱到正常燒結(jié)溫度或更低一些。

定制高溫箱式爐 1983     

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應(yīng)用領(lǐng)域 LFM系列高溫氣氛箱式電阻爐設(shè)計(jì)用于電子元件、玻璃、陶瓷粉料的在一定真空或氣氛保護(hù)下預(yù)燒、燒結(jié)，亦可作為其它陶瓷產(chǎn)品、稀土元件、磁性材料等的燒成之用。保溫材料采用高純輕質(zhì)氧化鋁纖維，30段PID程序溫控儀控制；具有升降溫速率調(diào)整范圍大，生產(chǎn)效率高，節(jié)能等特點(diǎn)，設(shè)備外型美觀，非常適合于科研單位批量生產(chǎn)，也能滿足一定條件下產(chǎn)能要求。

雙工位封管機(jī)(立式) 1911     

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設(shè)備特點(diǎn)： 本公司LQS-02VT真空封管機(jī)主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，封管機(jī)上有電磁閥，通電后處于常開狀態(tài)，當(dāng)壓力達(dá)到設(shè)定壓力后，電磁閥自動(dòng)關(guān)閉，停止進(jìn)氣。 標(biāo)準(zhǔn)化定制石英管和石英柱保證其余特殊設(shè)計(jì)的管接頭配合，提升石英管封裝的密封性，實(shí)現(xiàn)更高標(biāo)準(zhǔn)的真空封管。 優(yōu)勢(shì)： 石英管與內(nèi)置石英柱高溫熔接，標(biāo)準(zhǔn)化處理，重復(fù)性好。 石英管配合動(dòng)密封系統(tǒng)自動(dòng)旋轉(zhuǎn)，操作簡(jiǎn)單，受熱均勻。 真空系統(tǒng)配備旁抽裝置，避免粉末材料進(jìn)入真空泵，延長(zhǎng)真空泵使用壽命。 該設(shè)備為標(biāo)準(zhǔn)化操作，即學(xué)即用，簡(jiǎn)單方便。

1400真空氣氛箱式爐 1291     

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應(yīng)用：采用雙層殼體機(jī)構(gòu)，爐膛使用氧化鋁多晶纖維材料，廣泛應(yīng)用于材料金屬在低真空、還原性、保護(hù)性氣氛下的熱處理，也可用于特殊材料的熱處理，如碳制品的碳化工藝。 特點(diǎn)：爐門口安裝有水冷系統(tǒng)，氣體經(jīng)過流量計(jì)進(jìn)入爐內(nèi)，并有多處洗爐膛進(jìn)氣口、出氣口有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮?dú)狻⒀鯕?、一氧化碳等氣體。真快度可達(dá)100pa，具有溫差均勻，表面溫度低，升降溫速度快，節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，溫控系統(tǒng)采用進(jìn)口多段智能程序溫度控制儀表控制。

單溫區(qū)真空管式爐CVD系統(tǒng) 1281     

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CVD1200C 440D60 2ZLV 是集單溫區(qū)真空管式爐、二路質(zhì)量流量計(jì)系統(tǒng)及低真空機(jī)組而成一種動(dòng)態(tài)狀態(tài)下的化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。單溫區(qū)真空管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。