本發(fā)明公開了一種具有微納米級拓撲結(jié)構(gòu)的導電神經(jīng)修復材料及其制備方法與應用,屬于生物醫(yī)用材料領(lǐng)域。該制備方法包括如下步驟:利用軟光刻技術(shù)及熔融鑄膜工藝制備具有微納米級溝槽拓撲結(jié)構(gòu)的PDMS基底;將聚乳酸?羥基乙酸共聚物溶于有機溶劑中,再加入聚3,4?乙撐二氧噻吩,溶劑蒸發(fā)后獲得均勻分散的PLGA/PEDOT
復合材料;將所得復合材料均勻鋪展在PDMS基底上,再進行加熱熔融鑄膜處理,冷卻后將薄膜從PDMS基底上剝離下來,即得到具有微納米級拓撲結(jié)構(gòu)的導電神經(jīng)修復材料。本發(fā)明的制備工藝簡單,成本較低,所得薄膜結(jié)合了導電高分子和表面圖案化的優(yōu)勢,可應用于外周神經(jīng)組織工程支架的制備。
聲明:
“具有微納米級拓撲結(jié)構(gòu)的導電神經(jīng)修復材料及其制備方法與應用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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