本發(fā)明屬于環(huán)境
功能材料制備技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種中空多孔高活性硼親和印跡聚合物吸附劑及其制備方法和應(yīng)用。利用乳液模板法,RAFT印跡聚合技術(shù)一步構(gòu)建中空多孔高活性硼親和分子印跡聚合物并用于柚苷的選擇性分離。制備的中空多孔高活性硼親和分子印跡聚合物具有較高的比表面積與豐富的硼酸位點,可以高效分離富集柚苷并具有酸堿控制釋放性能。
聲明:
“中空多孔高活性硼親和印跡聚合物吸附劑及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)