通過在薄膜元件3上設(shè)置保護層, 可使上述薄膜 元件3免受銑削加工的影響, 因此可減小元件產(chǎn)生的凹陷。另外 當(dāng)通過Al2O3與TiC構(gòu)成的
復(fù)合材料形成滑動件的, 很容易對銑削的表面粗糙度進行調(diào)節(jié)。當(dāng)相對面5中的中心線平均粗糙度設(shè)定為Rah1, 而磁盤中心線平均粗糙度設(shè)定為Rad時, 則滿足下述關(guān)系 : 6nm≤Rah1+Rad≤19nm, 此時可避免吸附狀態(tài), 可降低啟動扭矩。
聲明:
“磁頭、具有該磁頭的磁記錄再生裝置及該磁頭的制造方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)