本實用新型公開了一種用于觀察高鎳三元材料充放電相變過程的原位XRD裝置,包括密封體以及充放電機構(gòu),所述密封體具有一密閉的容納腔;所述充放電機構(gòu)位于所述容納腔內(nèi),所述充放電機構(gòu)包括扣式電池負(fù)極殼、正極極片、隔膜、鋰片以及導(dǎo)電箔片,所述正極極片設(shè)于所述扣式電池負(fù)極殼的上方且與所述扣式電池負(fù)極殼電連接,所述隔膜設(shè)置于所述正極極片的上方,所述鋰片設(shè)置于所述隔膜的上方,所述鋰片上開設(shè)有開口,所述導(dǎo)電箔片設(shè)置于所述鋰片的上方,所述導(dǎo)電箔片與所述鋰片電連接。本實用新型提出的技術(shù)方案的有益效果是:通過改變正極極片和鋰片的放置順序,從而避免了正極極片內(nèi)的鋁箔對X射線衍射的影響,提高了信噪比,能顯著提高XRD譜圖質(zhì)量。
聲明:
“用于觀察高鎳三元材料充放電相變過程的原位XRD裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)