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      含MAX相界面層的SiCf/SiC復合材料的制備方法
      
					
      
					     1070  
					    編輯：管理員  
						來源：中冶有色技術網  
						
      
							2023-03-18 15:12:02						
      
					
      
				
      
				
      
				    本發(fā)明公開了一種含MAX相界面層的SiCf/SiC復合材料的制備方法，采用磁控濺射的方法對SiC纖維編織件進行沉積，獲得含MAX相界面層的SiC纖維，然后采用先驅體浸漬裂解的方法陶瓷化獲得SiCf/SiC復合材料；所述MAX相為Ti3SiC2；所述磁控濺射為先采用TiC靶進行磁控濺射，在SiC纖維束或SiC纖維編織件表面獲得0.1～0.2μm的TiC過鍍層，然后再采用TiC靶材與Si靶雙靶共濺射獲得Ti3SiC2，所述Ti3SiC2的厚度控制為0.6～1.0μm；本發(fā)明首創(chuàng)的采用磁控濺射的方法獲得了含MAX相界面層的SiCf/SiC復合材料，有效降低了沉積溫度，避免了纖維的損傷，所得界面層在抗氧化性能方面優(yōu)于現(xiàn)有技術常用的C、BN等界面層。同時本發(fā)明采用雙先驅體浸漬法，有效的提升了浸漬效率，并獲得了化學計量比的碳化硅陶瓷。				    
      
				        
      聲明：
      
				        
      
				         “含MAX相界面層的SiCf/SiC復合材料的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。
				        
      
				        
      
				        我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
				        
      
				    
      
				
      
				
				
      
					
      
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      標簽：
      
					 
					復合材料
									
      
				
				
				
				
								
								
				
				
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