本發(fā)明提供了一種化學機械拋光墊,其包括:具有拋光表面的拋光層;以及廣譜終點檢測窗口塊體,其具有沿著垂直于所述拋光表面的平面的軸方向上的厚度;其中所述廣譜終點檢測窗口塊體包含環(huán)狀烯烴加成聚合物;其中所述廣譜終點檢測窗口塊體在其厚度上具有均勻的化學組成;其中所述廣譜終點檢測窗口塊體的光譜損失<40%;以及,其中所述拋光表面適合用于對選自磁性基材、光學基材和半導體基材的基材進行拋光。
聲明:
“具有廣譜終點檢測窗口的化學機械拋光墊以及使用該拋光墊進行拋光的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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