本發(fā)明屬于薄層色譜分離技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種基于MOFs復(fù)合光子晶體薄層的薄層色譜分離方法,所述基于MOFs復(fù)合光子晶體薄層的薄層色譜分離方法包括:進行涂覆有膠溶液的光子晶體薄層的制備;采用化學(xué)氣相沉積法進行硅?
石墨烯光子晶體薄層的制備;進行光子晶體薄層表面羥基的恢復(fù);對光子晶體薄層進行羧基修飾;進行MOFs復(fù)合光子晶體薄層的制備;進行薄層色譜分離。本發(fā)明通過二氧化硅和石墨烯膠層的涂覆實現(xiàn)硅?石墨烯光子晶體薄層的制備,可同步實現(xiàn)物質(zhì)的高效分離和結(jié)構(gòu)色檢出,強化了物質(zhì)的吸附脫附過程,提高了對待分析物的選擇性,從而顯著提高分離效果,成功分離傳統(tǒng)薄層色譜無法分離的結(jié)構(gòu)相近物質(zhì)。
聲明:
“基于MOFs復(fù)合光子晶體薄層的薄層色譜分離方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)