本發(fā)明涉及一種卷煙煙氣色譜基線校正MPLS方法,屬煙草化學(xué)與應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明方法引入了化學(xué)計量法中的基于數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的峰識別、懲罰最小二乘方法原理進行卷煙煙氣色譜信息基線校正,即:利用數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的開啟運算找出卷煙煙氣色譜信號中的峰位置,后記錄相鄰峰之間的最低點,通過最低點作為權(quán)重的懲罰最小二乘擬合出背景,通過智能模擬專家手工進行基線校正過程,并將其自動化。本發(fā)明的有益效果在于:扣除背景后卷煙煙氣的主成分分析結(jié)果相對于該算法處理前有較大的改進,驗證了算法的有效性。說明MPLS方法是卷煙煙氣GC/oa-TOF-MS色譜基線校正非常有用的工具,為煙草化學(xué)與應(yīng)用技術(shù)開辟了一個新的應(yīng)用領(lǐng)域,為卷煙煙氣研究提供了一個新的方法與思路。
聲明:
“卷煙煙氣色譜基線校正MPLS方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)