技術(shù)背景：

軟磁材料從純鐵、Fe-Si合金(硅鋼)、Fe-Ni合金(坡莫合金)到Fe-Co合金已有100多年的歷史。傳統(tǒng)上這些軟磁合金是經(jīng)過(guò)冶煉、鍛造、熱軋或冷軋、熱處理等繁雜工藝制成晶態(tài)合金，生產(chǎn)成本高、產(chǎn)品規(guī)格(特別是薄帶幅寬、厚度)受限、磁性能也不很理想。近年來(lái)開發(fā)的非晶態(tài)合金和納米晶軟磁薄帶金屬材料生產(chǎn)技術(shù)，是采用急冷技術(shù)，由熔態(tài)合金在旋轉(zhuǎn)的輥面上急冷直接形成數(shù)十個(gè)微米厚的薄帶，雖然磁性能顯著提高，但目前生產(chǎn)成本很高，產(chǎn)品幅寬很窄，厚度不易調(diào)控，表面粗糙，應(yīng)用受到局限。

采用電沉積方法生產(chǎn)鐵鎳軟磁合金箔，其磁性能優(yōu)于優(yōu)于傳統(tǒng)軋制薄帶，接近非晶態(tài)合金，是一種高性能的軟磁合金箔帶材料。電沉積合金箔生產(chǎn)采用旋轉(zhuǎn)陰極輥，邊沉積邊剝離，產(chǎn)品幅寬大，厚度易于調(diào)控，生產(chǎn)成本低，而且相對(duì)于軋制法，越薄其成本優(yōu)勢(shì)越大。電沉積法尤其適合于生產(chǎn)電工行業(yè)迫切需求的薄而寬的高性能軟磁箔帶材料。

技術(shù)簡(jiǎn)介：

工藝原理：在一裝有確定組成溶液的電解槽中通以直流電，電場(chǎng)作用下鎳、鐵以離子形式從可溶陽(yáng)極溶下，并在陰極上放電析出，至要求厚度從陰極剝離。

目前可生產(chǎn)幅寬1200mm以內(nèi)，厚度5μm以上任一指定規(guī)格的Ni-Fe合金箔帶(軟磁箔材)、Ni-Fe-Cr合金箔帶(電阻加熱箔材)、純Fe箔帶(軟磁箔材、電極箔材)、純Ni箔帶及表面粗化Ni箔帶(電極箔材)。

電沉積生產(chǎn)的Ni(50%)-Fe(50%)合金箔熱處理后，其直流磁性能： B800達(dá)到1.51 T , Hc 降至10.9 A·m-1 ,μ0.08 和μm 分別升至3.9 mH·m-1 和47.0 mH·m-1, 磁性能優(yōu)于熔鑄-軋制法生產(chǎn)的1J50坡模合金帶。

技術(shù)水平：

具有成套的工業(yè)生產(chǎn)工藝技術(shù)和設(shè)備設(shè)計(jì)技術(shù)，建立了工業(yè)規(guī)模生產(chǎn)示范線，產(chǎn)品投放市場(chǎng)。

推廣方式：資本投入，合作生產(chǎn);產(chǎn)品應(yīng)用市場(chǎng)開發(fā)