本發(fā)明屬于陶瓷基
復合材料制備技術(shù)領域,具體涉及一種具有自修復功能的碳化硅陶瓷基復合材料制備方法。該方法利用化學氣相沉積工藝對具有自愈合功能的微納顆粒進行表面處理,在其表面沉積一層均勻的BN包覆層,得到具有核?殼結(jié)構(gòu)的表面改性自愈合顆粒,將該顆粒與高殘?zhí)繕渲⒂袡C溶劑、分散劑制成料漿,與纖維制備成預浸料后,經(jīng)歷固化、碳化、液Si熔滲,制得改性后的碳化硅陶瓷基復合材料。該方法一方面利用核?殼結(jié)構(gòu)中具有自修復功能組元的核層在高溫下生成玻璃相封填孔隙和裂紋;另一方面,由于殼層是具有層狀結(jié)構(gòu)的BN,當裂紋擴展到核?殼結(jié)構(gòu)表面時,具有弱界面特性的殼層通過層間滑移、裂紋偏轉(zhuǎn)等能量吸收機制延長裂紋的擴散途徑。
聲明:
“具有自修復功能的碳化硅陶瓷基復合材料制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)