本發(fā)明提供了一種用于極片補鋰的裝置,極片包括集流體以及設(shè)置在集流體表面上的活性物質(zhì)層,集流體表面的未設(shè)置活性物質(zhì)層的部分為空白集流體區(qū),用于極片補鋰的裝置包括輥壓機構(gòu)、極片提供機構(gòu)、鋰膜提供機構(gòu)以及隔斷物提供機構(gòu);輥壓機構(gòu)包括兩個壓輥;極片提供機構(gòu)位于輥壓機構(gòu)的上游,用于提供極片;鋰膜提供機構(gòu)位于輥壓機構(gòu)的上游,用于提供鋰膜,鋰膜包括鋰箔;隔斷物提供機構(gòu)位于輥壓機構(gòu)的上游,用于將隔斷物提供到空白集流體區(qū)的表面上,使鋰膜與空白集流體區(qū)被隔開,輥壓機構(gòu)用于壓延鋰膜以及帶有隔斷物的極片,以使鋰膜中的鋰箔粘附到活性物質(zhì)層上。由此,輥壓機構(gòu)用于在壓延時,形成的補鋰極片的空白集流體區(qū)中不會存在鋰殘留。
聲明:
“用于極片補鋰的裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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