本發(fā)明提供一種鈮酸鋰光
芯片脊形波導(dǎo)的制備方法,屬于光芯片技術(shù)領(lǐng)域。因?yàn)樵阝壦徜噷优c硬掩膜層之間設(shè)置了阻擋層,所以,在刻蝕硬掩膜層時,使得單位面積密度不同的兩個區(qū)域的條狀結(jié)構(gòu)刻蝕均停止于阻擋層,所以,提高了刻蝕的均勻性和一致性。另外,鈮酸鋰具有較大的非線性光學(xué)系數(shù)、透光范圍寬、透過率高,在刻蝕鈮酸鋰層的過程中,因?yàn)樵O(shè)置有阻擋層,所以,減少了兩個密度分布不均的區(qū)域中條狀結(jié)構(gòu)之間的深度差異,并克服了不同區(qū)域條狀結(jié)構(gòu)中光源的串?dāng)_,從而提高了光芯片的光學(xué)性能。
聲明:
“鈮酸鋰光芯片脊形波導(dǎo)的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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