本發(fā)明公開了一種超薄超高抗雙面光
鋰電銅箔的生產(chǎn)方法,包括以下步驟:配置電解液進行哈林槽打片,每次1.5L,根據(jù)多種添加劑體系要求,添加相應(yīng)的添加劑,電解液參數(shù)按照要求進行,電解液濃度為1?20ppm;哈林槽加液1.5L,添加劑按照濃度添加,充分?jǐn)嚢杈鶆颍娏?6.5A,通電50s,控制槽壓4.5?5.5V,電鍍結(jié)束后?用純水沖洗,然后用吹風(fēng)機吹干;將銅箔從陰極板剝下,檢測光澤度、抗拉強度,添加劑實驗每批次實驗結(jié)束后換液。本發(fā)明采用上述一種超薄超高抗雙面光鋰電銅箔的生產(chǎn)方法,同時提升了銅箔的常溫抗拉強度及延伸率,工藝簡單,6μm高抗銅箔外觀無差異。
聲明:
“超薄超高抗雙面光鋰電銅箔的生產(chǎn)方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)