一種片上高品質(zhì)薄膜微光學(xué)器件的制備方法,包括在薄膜表面鍍金屬層、飛秒激光選擇性燒蝕金屬膜、化學(xué)機(jī)械拋光以及化學(xué)腐蝕等步驟。本發(fā)明方法制備的片上微光學(xué)器件具有極高的表面光潔度,極低的光學(xué)損耗。該方法適用于各種片上薄膜(包含但不限于鈮酸鋰單晶薄膜、石英薄膜、硅薄膜、二氧化硅薄膜、金剛石薄膜等)上制備高品質(zhì)的微光學(xué)結(jié)構(gòu)(包含但不限于微盤腔、微環(huán)腔、光波導(dǎo)及其耦合器件)。
聲明:
“片上高品質(zhì)薄膜微光學(xué)結(jié)構(gòu)的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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