本實(shí)用新型涉及原位
電化學(xué)反應(yīng)池及原位測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域,具體地說是一種用于X射線原位成像系統(tǒng)的電化學(xué)反應(yīng)裝置,包括主殼體、上螺桿、下螺桿和電極組件,所述主殼體內(nèi)部設(shè)有凹槽,且所述上螺桿與所述凹槽側(cè)壁螺紋連接,所述下螺桿包括螺桿部和螺帽部,其中所述螺帽部置于所述凹槽中,所述螺桿部與主殼體螺紋連接并穿過主殼體底部,電極組件置于所述凹槽中并設(shè)于上螺桿與下螺桿的螺帽部之間,所述上螺桿上側(cè)設(shè)有上引線,所述下螺桿的螺桿部位于主殼體外的部分設(shè)有下引線。本實(shí)用新型可保證獲得樣品結(jié)構(gòu)的高分辨、高質(zhì)量圖像,從而可實(shí)時(shí)原位地觀察電極材料或者鋰金屬負(fù)極的形貌結(jié)構(gòu)變化,并且安裝方便,操作簡(jiǎn)單,移植性強(qiáng)。
聲明:
“用于X射線原位成像系統(tǒng)的電化學(xué)反應(yīng)裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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