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      測試電化學(xué)反應(yīng)過程的原位XRD反應(yīng)室

      658   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
      2023-03-19 06:49:13
      本實用新型公開了一種測試電化學(xué)反應(yīng)過程的原位XRD反應(yīng)室,包括一固定座、設(shè)置于固定座上的負(fù)極座、正極座和測試窗口,所述的負(fù)極座包括螺紋方式的負(fù)極底座和負(fù)極旋蓋,負(fù)極旋蓋上開設(shè)有第一通孔,在負(fù)極旋蓋內(nèi)腔中設(shè)有和負(fù)極基體;負(fù)極底上開設(shè)有2個以上的氣孔和一負(fù)極引線柱,所述氣孔底端設(shè)有密封塞,所述負(fù)極引線柱的一端與負(fù)極基體接觸,另一端伸出負(fù)極底座;所述的正極座包括環(huán)形旋蓋、設(shè)置于其上的正極基體和正極引線柱,正極基體設(shè)置于環(huán)形旋蓋上的第二通孔中;在負(fù)極底座與負(fù)極旋蓋構(gòu)成的空隙中,填充有電解液;測試窗口設(shè)置于環(huán)形旋蓋的頂端,其底端與正極基體的頂端之間留有間隙。本新型結(jié)構(gòu)簡單,適用于兩電極體系和三電極體系。
      聲明:
      “測試電化學(xué)反應(yīng)過程的原位XRD反應(yīng)室” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
      我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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