本發(fā)明屬化學(xué)分析技術(shù)領(lǐng)域,涉及氮雜?氟硼二吡咯甲川在制備測定臨界膠束濃度的熒光指示劑中的應(yīng)用,尤其是式(Ⅰ)或(II)結(jié)構(gòu)的氮雜?氟硼二吡咯甲川化合物在制備測定兩親性表面活性物質(zhì)臨界膠束濃度中的應(yīng)用。所述的氮雜?氟硼二吡咯甲川化合物具有在表面活性物質(zhì)CMC以下無熒光的特征,以及吸收和熒光發(fā)射波長長,量子產(chǎn)率高,化學(xué)和光學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,并且在CMC下受散射和背景熒光干擾小,因此熒光突變更顯著,測定終點更容易判斷,準(zhǔn)確度更高。本發(fā)明適用于正、負(fù)離子表面活性劑、非離子表面活性劑、兩親性嵌段聚合物CMC的測定,適用的CMC范圍從毫摩爾濃度(mM)至納摩爾濃度(nM),尤其適用于具有極低CMC值的兩親性嵌段聚合物的測定。
聲明:
“氮雜-氟硼二吡咯甲川在制備測定膠束濃度的熒光指示劑中的應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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