本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體器件制作技術(shù)領(lǐng)域,是一種
多晶硅薄膜晶體管離子注入機(jī)。本實(shí)用新型包含有真空室,抽氣裝置,氣路部分,電控制器。本實(shí)用新型的氣路部分通過(guò)配氣截止閥同真空室連接,向真空室運(yùn)送所要注入的氣體。抽氣裝置通過(guò)角閥和閘板閥同真空室連接,利用
真空泵使真空室保持一定的真空度。電控制器連接所有的用電部件,作為本實(shí)用新型的電源。本實(shí)用新型采取離子通量注入的方式,省去了現(xiàn)有技術(shù)中質(zhì)量分析系統(tǒng)、離子束聚焦和掃描系統(tǒng),因此結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,而且可以大面積的離子注入。在抽氣裝置上增加大排量機(jī)械泵,使本實(shí)用新型可以用作化學(xué)氣相淀積PECVD和等離子刻蝕。
聲明:
“多晶硅薄膜晶體管離子注入機(jī)” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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