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      高容量寡片石墨烯及其低溫制備方法

      253   編輯:中冶有色技術(shù)網(wǎng)   來源:昌邑森匯新材料有限公司, 青島科技大學(xué)  
      2024-11-29 15:53:18
      權(quán)利要求

      1.一種高容量寡片石墨烯的低溫制備方法,其特征在于:按如下步驟進行:

      S1:將5±0.5g石墨粉和1±0.5g硝酸鈉與150±10mL混合酸均勻混合,在冰水浴條件下攪拌,在攪拌的過程中緩慢加入氧化劑,反應(yīng)2-3小時,得到混合溶液;

      S2:將混合溶液轉(zhuǎn)移至35±5℃的恒溫水中進行水浴,反應(yīng)時間為30±5min;在混合溶液中逐步加入92±5mL的去離子水,而后將混合溶液加熱至98±2℃繼續(xù)反應(yīng)3±0.5h,然后將混合溶液從水浴中取出;

      S3:繼續(xù)在步驟S2處理完成的混合溶液中加入30mL去離子水稀釋,并用30±2mL的H2O2溶液中和混合溶液中未反應(yīng)的氧化劑,對混合溶液進行離心過濾,得到溶液中的沉淀物;

      S4:采用鹽酸在抽濾條件下洗滌步驟S3得到的沉淀物2次,然后用蒸餾水洗滌沉淀物至pH值為5-7;

      S5:將洗滌后的沉淀物放在離心機中進行離心處理,分離出沉淀物制得寡片石墨烯生產(chǎn)原料;

      S6:然后將寡片石墨烯生產(chǎn)原料置于真空度0.01Pa-10kPa的環(huán)境中,而后以1-5℃/min的升溫速率升溫到-60~-80℃進行高真空冷凍處理,維持恒溫48-72h冷凍干燥,得到寡片石墨烯材料。

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種高容量寡片石墨烯的低溫制備方法,其特征在于:步驟S1中,混合酸的質(zhì)量濃度為98%。

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種高容量寡片石墨烯的低溫制備方法,其特征在于:步驟S1中,混合酸為濃硫酸、硝酸、磷酸混合液,按容量計所述濃硫酸的用量為120mL、硝酸的用量為10-20mL、磷酸的用量為10-20mL。

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述一種高容量寡片石墨烯的低溫制備方法,其特征在于:步驟S1中,氧化劑采用KMnO4,所述KMnO4的用量為5±0.5g。

      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述一種高容量寡片石墨烯的低溫制備方法,其特征在于:步驟S3中,H2O2溶液的質(zhì)量濃度為30%。

      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述一種高容量寡片石墨烯的低溫制備方法,其特征在于:步驟S3中,質(zhì)量濃度為30%的H2O2溶液制備工序為:量取質(zhì)量濃度為100%的H2O2溶液3mL,并加入27mL的水經(jīng)稀釋后得到質(zhì)量濃度為30%的H2O2溶液。

      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述一種高容量寡片石墨烯的低溫制備方法,其特征在于:步驟S4中,鹽酸的濃度為0.1mol/L。

      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述一種高容量寡片石墨烯的低溫制備方法,其特征在于:步驟S5中,離心機的離心轉(zhuǎn)速為8000±500r/min,離心處理時間為5-10min。

      9.一種采用權(quán)利要求1-8任一項低溫制備方法制備的高容量寡片石墨烯,其特征在于:該寡片石墨烯具有如下物理參數(shù):寡片石墨烯片層厚度為0.35-20nm,比表面積為200-800m2/g,電化學(xué)比容量為140-180F/g;電導(dǎo)率>104S/m。

      說明書

      技術(shù)領(lǐng)域

      [0001]本發(fā)明屬于寡片石墨烯制備技術(shù)領(lǐng)域,具體的說,涉及一種高容量寡片石墨烯及其低溫制備方法。

      背景技術(shù)

      [0002]石墨烯是一種由單層碳原子以sp2雜化軌道組成六角形呈蜂巢晶格的二維碳納米材料,具有極高的比表面積,當(dāng)石墨烯的片層由單層、雙層或幾層堆疊而成時,即為一種高容量寡片石墨烯,該種高容量寡片石墨烯具有高導(dǎo)電性、高強度和韌性、超大比表面積、優(yōu)異熱傳導(dǎo)性、良好的化學(xué)穩(wěn)定性、高透光性等特點,在電子行業(yè)、新能源領(lǐng)域、材料學(xué)領(lǐng)域、生物醫(yī)藥領(lǐng)域以及其他領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用場景,高容量寡片石墨烯的高比表面積意味著它可以提供更多的活性位點,從而增加與電解質(zhì)的接觸面積,提高儲能器件的容量和性能。

      [0003]所謂的比表面積是指單位質(zhì)量石墨烯所具有的表面積,由于石墨烯是由單層碳原子組成的二維材料,其厚度僅為一個原子層,因此即使質(zhì)量很小,也能擁有巨大的表面積;但是,實際制備的石墨烯可能由于缺陷、雜質(zhì)、層數(shù)等因素而導(dǎo)致其比表面積與理論值有所偏差,需要根據(jù)具體情況對石墨烯的比表面積進行準(zhǔn)確測量和評估。

      發(fā)明內(nèi)容

      [0004]本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于提供一種高容量寡片石墨烯及其低溫制備方法,在低溫條件下制得的寡片石墨烯具有高比表面積的優(yōu)良性能。

      [0005]為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:

      一種制備上述高容量寡片石墨烯的低溫制備方法,按如下步驟進行:

      S1:將5±0.5g石墨粉和1±0.5g硝酸鈉與150±10mL混合酸均勻混合,在冰水浴條件下攪拌,在攪拌的過程中緩慢加入氧化劑,反應(yīng)2-3小時,得到混合溶液;

      S2:將混合溶液轉(zhuǎn)移至35±5℃的恒溫水中進行水浴,反應(yīng)時間為30±5min;在混合溶液中逐步加入92±5mL的去離子水,而后將混合溶液加熱至98±2℃繼續(xù)反應(yīng)3±0.5h,然后將混合溶液從水浴中取出;

      S3:繼續(xù)在步驟S2處理完成的混合溶液中加入30mL去離子水稀釋,并用30±2mL的H2O2溶液中和混合溶液中未反應(yīng)的氧化劑,對混合溶液進行離心過濾,得到溶液中的沉淀物;

      S4:采用鹽酸在抽濾條件下洗滌步驟S3得到的沉淀物2次,然后用蒸餾水洗滌沉淀物至pH值為5-7;

      S5:將洗滌后的沉淀物放在離心機中進行離心處理,分離出沉淀物制得寡片石墨烯生產(chǎn)原料;

      S6:然后將寡片石墨烯生產(chǎn)原料置于真空度0.01Pa-10kPa的環(huán)境中,而后以1-5℃/min的升溫速率升溫到-60~-80℃進行高真空冷凍處理,維持恒溫48-72h冷凍干燥,得到寡片石墨烯材料。

      [0006]以下是本發(fā)明對上述技術(shù)方案的進一步優(yōu)化:

      步驟S1中,混合酸的質(zhì)量濃度為98%。

      [0007]進一步優(yōu)化:步驟S1中,混合酸為濃硫酸、硝酸、磷酸混合液,按容量計所述濃硫酸的用量為120mL、硝酸的用量為10-20mL、磷酸的用量為10-20mL。

      [0008]進一步優(yōu)化:步驟S1中,氧化劑采用KMnO4,所述KMnO4的用量為5±0.5g。

      [0009]進一步優(yōu)化:步驟S3中,H2O2溶液的質(zhì)量濃度為30%。

      [0010]進一步優(yōu)化:步驟S3中,質(zhì)量濃度為30%的H2O2溶液制備工序為:量取質(zhì)量濃度為100%的H2O2溶液3mL,并加入27mL的水經(jīng)稀釋后得到質(zhì)量濃度為30%的H2O2溶液。

      [0011]進一步優(yōu)化:步驟S4中,鹽酸的濃度為0.1mol/L。

      [0012]進一步優(yōu)化:步驟S5中,離心機的離心轉(zhuǎn)速為8000±500r/min,離心處理時間為5-10min。

      [0013]本發(fā)明還提供一種采用上述低溫制備方法制備的高容量寡片石墨烯,具有如下物理參數(shù):寡片石墨烯片層厚度為0.35-20nm,比表面積為200-800m2/g,電化學(xué)比容量為140-180F/g;電導(dǎo)率>104S/m。

      [0014]本發(fā)明采用上述技術(shù)方案,構(gòu)思巧妙,在低溫條件下制備寡片石墨烯,工藝簡單,操作成本較低,降低了對生產(chǎn)設(shè)備的要求,整個反應(yīng)過程穩(wěn)定可控,生產(chǎn)出的寡片石墨烯性質(zhì)更穩(wěn)定,通過該方法制得的寡片石墨烯的比表面積在200-800m2/g,該特性使寡片石墨烯在表面化學(xué)、吸附、儲能材料、氣體傳感器以及環(huán)保和海水淡化等領(lǐng)域具有極大的應(yīng)用潛力,是一種具有市場前景且應(yīng)用廣泛的材料。

      [0015]下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進一步說明。

      附圖說明

      [0016]圖1為本發(fā)明實施例中8-10層寡片石墨烯在比例尺為10μm時的SEM圖;

      圖2為本發(fā)明實施例中8-10層寡片石墨烯在比例尺為1μm時的SEM圖。

      具體實施方式

      [0017]實施例1:如圖1-2所示,一種高容量寡片石墨烯的低溫制備方法,包括以下步驟:

      S1:將4.5g石墨粉和0.5g硝酸鈉與140mL質(zhì)量濃度為98%的混合酸均勻混合,在冰水浴條件下攪拌,在攪拌的過程中緩慢加入氧化劑,反應(yīng)2小時,得到混合溶液。

      [0018]所述步驟S1中,混合酸為濃硫酸、硝酸、磷酸混合液,按容量計所述濃硫酸的用量為120mL、硝酸的用量為10mL、磷酸的用量為10mL。

      [0019]步驟S1中,氧化劑采用KMnO4,所述KMnO4的用量為4.5g。

      [0020]S2:將混合溶液轉(zhuǎn)移至30℃的恒溫水中進行水浴,反應(yīng)時間為25min;在混合溶液中逐步加入87mL的去離子水,而后將混合溶液加熱至96℃繼續(xù)反應(yīng)2.5h,然后將混合溶液從水浴中取出;

      S3:繼續(xù)在步驟S2處理完成的混合溶液中加入30mL去離子水稀釋,并用28mL質(zhì)量濃度為30%的H2O2溶液中和混合溶液中未反應(yīng)的KMnO4,對混合溶液進行離心過濾,得到溶液中的沉淀物;

      所述步驟S3中質(zhì)量濃度為30%的H2O2溶液制備工序為:量取質(zhì)量濃度為100%的H2O2溶液3mL,并加入27mL的水經(jīng)稀釋后得到質(zhì)量濃度為30%的H2O2溶液。

      [0021]S4:采用濃度為0.1mol/L的鹽酸在抽濾條件下洗滌步驟S3得到的沉淀物2次,然后用蒸餾水洗滌沉淀物至pH值為5;

      S5:將洗滌后的沉淀物放在離心機中,在7500r/min的轉(zhuǎn)速下離心處理5min;分離出沉淀物制得寡片石墨烯生產(chǎn)原料。

      [0022]S6:將步驟S5處理完成的寡片石墨烯生產(chǎn)原料置于真空度為0.01Pa的環(huán)境中,而后以1℃/min的升溫速率升溫到-60℃進行高真空冷凍處理,維持恒溫48h冷凍干燥,處理完成后,得到寡片石墨烯材料。

      [0023]實施例2:一種高容量寡片石墨烯的低溫制備方法,包括以下步驟:

      S1:將5g石墨粉和1g硝酸鈉與150mL質(zhì)量濃度為98%的混合酸均勻混合,在冰水浴條件下攪拌,在攪拌的過程中緩慢加入5g的KMnO4,反應(yīng)2.5小時,得到混合溶液。

      [0024]所述步驟S1中,混合酸為濃硫酸、硝酸、磷酸混合液,按容量計所述濃硫酸的用量為120mL、硝酸的用量為15mL、磷酸的用量為15mL。

      [0025]S2:將混合溶液轉(zhuǎn)移至35℃的恒溫水中進行水浴,反應(yīng)時間為30min;在混合溶液中逐步加入92mL的去離子水,而后將混合溶液加熱至98℃繼續(xù)反應(yīng)3h,然后將混合溶液從水浴中取出;

      S3:繼續(xù)在步驟S2處理完成的混合溶液中加入30mL去離子水稀釋,并用30mL質(zhì)量濃度為30%的H2O2溶液中和混合溶液中未反應(yīng)的KMnO4,對混合溶液進行離心過濾,得到溶液中的沉淀物;

      S4:采用濃度為0.1mol/L的鹽酸在抽濾條件下洗滌步驟S3得到的沉淀物2次,然后用蒸餾水洗滌沉淀物至pH值為6;

      S5:將洗滌后的沉淀物放在離心機中,在8000r/min的轉(zhuǎn)速下離心處理8min,分離出沉淀物制得寡片石墨烯生產(chǎn)原料;

      S6:將步驟S5處理完成的寡片石墨烯生產(chǎn)原料置于真空度為5kPa的環(huán)境中,而后以3℃/min的升溫速率升溫到-70℃進行高真空冷凍處理,維持恒溫60h冷凍干燥,處理完成后,得到寡片石墨烯材料。

      [0026]實施例3:一種高容量寡片石墨烯的低溫制備方法,包括以下步驟:

      S1:將5.5g石墨粉和1.5g硝酸鈉與160mL質(zhì)量濃度為98%的混合酸均勻混合,在冰水浴條件下攪拌,在攪拌的過程中緩慢加入5.5g的KMnO4,反應(yīng)3小時,得到混合溶液。

      [0027]所述步驟S1中,混合酸為濃硫酸、硝酸、磷酸混合液,按容量計所述濃硫酸的用量為120mL、硝酸的用量為20mL、磷酸的用量為20mL。

      [0028]S2:將混合溶液轉(zhuǎn)移至40℃的恒溫水中進行水浴,反應(yīng)時間為35min;在混合溶液中逐步加入97mL的去離子水,而后將混合溶液加熱至100℃繼續(xù)反應(yīng)3.5h,然后將混合溶液從水浴中取出。

      [0029]S3:繼續(xù)在步驟S2處理完成的混合溶液中加入30mL去離子水稀釋,并用32mL質(zhì)量濃度為30%的H2O2溶液中和混合溶液中未反應(yīng)的KMnO4,對混合溶液進行離心過濾,得到溶液中的沉淀物。

      [0030]S4:采用濃度為0.1mol/L的鹽酸在抽濾條件下洗滌步驟S3得到的沉淀物2次,然后用蒸餾水洗滌沉淀物至pH值為7。

      [0031]S5:將洗滌后的沉淀物放在離心機中,在8500r/min的轉(zhuǎn)速下離心處理10min,分離出沉淀物制得寡片石墨烯生產(chǎn)原料。

      [0032]S6:將步驟S5處理完成的寡片石墨烯生產(chǎn)原料置于真空度為10kPa的環(huán)境中,而后以5℃/min的升溫速率升溫到-80℃進行高真空冷凍處理,維持恒溫72h冷凍干燥,處理完成后,得到寡片石墨烯材料。

      [0033]對上述實施例1-3制備的寡片石墨烯的物理性能進行檢測,檢測項目包括:(1)、比表面積;(2)、電化學(xué)比容量;(3)、寡片石墨烯片層厚度;(4)、電導(dǎo)率。

      [0034]其中(1)、比表面積的檢驗工序按如下步驟進行:

      B1、將實施例1-3中制備的寡片石墨烯分別裝入三個相對應(yīng)的樣品管中,并對三個樣品管進行編號以對應(yīng)實施例1-3中的寡片石墨烯,然后對三個樣品管進行抽真空,真空度為10Pa,同時開始加熱,升溫速率5℃/min,升溫至200℃,維持10h,得到氧化石墨烯。

      [0035]B2、利用氮氣吸附測定氧化石墨烯的比表面積,吸附溫度為液氮溫度(77K),測得的實施例1-3中寡片石墨烯的比表面積如下表所示:

      序號比表面積實施例1210㎡/g實施例2300㎡/g實施例3780㎡/g

      由上表可知,實施例1-3中制備的寡片石墨烯的比表面積為200-800m2/g。

      [0036](2)、電化學(xué)比容量的檢驗工序按如下步驟進行:

      D1、首先依次稱取實施例1-3制備的寡片石墨烯3mg,并對實施例1-3制備的寡片石墨烯按如下檢測步驟進行檢測電化學(xué)比容量。

      [0037]D2、利用KOH為電解液的三電極體系測試其電化學(xué)比容量;將泡沫鎳切割成邊長1*1cm的方形電極片,在120℃的環(huán)境下干燥12h后稱重。

      [0038]D3、將步驟D1稱取的寡片石墨烯放在100℃的環(huán)境下真空干燥5h,使其脫氣,然后滴入0.3mg的PVDF乳液或PTFE乳液,0.3mg的炭黑,加入2mL的NMP,超聲分散20min,得到分散液。

      [0039]D4、然后用滴管將上述分散液滴加在泡沫鎳電極片上,將分散液滴完的電極片在60℃的環(huán)境下干燥12h,稱重,計算有效的寡片石墨烯質(zhì)量,將做好的電極片在KOH溶液中浸泡12h后測定其電化學(xué)性能;以Ag/AgCl為參比電極,在充放電電流100mA/g下測定的實施例1-3中寡片石墨烯的電化學(xué)比容量如下表所示:

      序號電化學(xué)比容量實施例1142F/g實施例2156F/g實施例3178F/g

      由上表可知,實施例1-3中制備的寡片石墨烯的電化學(xué)比容量為140-180F/g。

      [0040](3)、采用掃描電子顯微鏡(SEM)對實施例1-3中制備的寡片石墨烯的片層厚度進行檢測。

      [0041]下表是對實施例1-3中寡片石墨烯片層厚度的檢測結(jié)果表:

      序號寡片石墨烯片層厚度實施例118nm實施例20.45nm實施例35.6nm

      由上表可知,實施例1-3中制備的寡片石墨烯的片層厚度為0.35-20nm。

      [0042](4)、采用電化學(xué)工作站對實施例1-3中制得的寡片石墨烯的電導(dǎo)率進行檢測;其中實施例1制得的寡片石墨烯的電導(dǎo)率>105S/m;實施例2制得的寡片石墨烯的電導(dǎo)率>106S/m;實施例3制得的寡片石墨烯的電導(dǎo)率>104S/m。

      [0043]由此可見,實施例1-3中制備的寡片石墨烯的電導(dǎo)率>104S/m。

      [0044]對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言,根據(jù)本發(fā)明的教導(dǎo),在不脫離本發(fā)明的原理與精神的情況下,對實施方式所進行的改變、修改、替換和變型仍落入本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。

      說明書附圖(2)


      聲明:
      “高容量寡片石墨烯及其低溫制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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