本發(fā)明公開了一種基于
電化學發(fā)光自干涉測量溶液中發(fā)光層厚度及發(fā)光分子與電極之間距離的方法,所述方法包括:(1)在電極體系的電解質(zhì)溶液中含有發(fā)光分子或工作電極表面固定有發(fā)光分子,對電極體系施加電位,發(fā)光分子發(fā)光作為光源,工作電極產(chǎn)生干涉光;(2)依次采用準直鏡、光纖和狹縫在垂直于工作電極的方向收集工作電極的干涉光信號,并用光纖光譜儀記錄,得到工作電極的電化學發(fā)光自干涉光譜;(3)利用傳輸矩陣法和雙光束干涉法對電化學發(fā)光自干涉光譜進行分析計算,得到發(fā)光層厚度或發(fā)光分子與電極之間距離。該方法測量的空間分辨率達到納米級,對研究電化學發(fā)光的機理、提高其性能具有重要意義。
聲明:
“基于電化學發(fā)光自干涉測量溶液中發(fā)光層厚度及發(fā)光分子與電極之間距離的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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