光譜研究金屬及合金之緩蝕劑的作用及其擇優(yōu)化表面技術(shù)。本發(fā)明屬于光譜學(xué)與金屬腐蝕與防護技術(shù)相結(jié)合的技術(shù)領(lǐng)域。固定光譜電解池(如圖)由以半圓形硅柱2作載體,表面化學(xué)鍍金,電沉積被研究對象的金屬為電極1(銅線8相接),對電極純鉑電極3,及參比飽和甘汞電極4,進出N2氣口5,6構(gòu)成,并置全反射的光路中,以溶液進出口7,將緩蝕劑于池中換液,并靜置數(shù)小時,使電極表面自組裝上緩蝕劑分子。用原位表面增強紅外光譜,對上樣品進行電位調(diào)制分析。與以往技術(shù)相比,其通過在紅外窗口半圓形硅柱上,鍍金屬納米薄膜為電極,又利用原位表面增強紅外技術(shù),研究不同緩蝕劑分子在金屬表面隨電位變化的吸附構(gòu)型,了解緩蝕劑作用過程,使此技術(shù)在金屬或合金防蝕與保護上有更有效的廣泛應(yīng)用。
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我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)