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      自動檢測晶片基底二維形貌的裝置

      868   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
      2023-03-19 08:58:22
      本發(fā)明公開了一種自動檢測晶片基底二維形貌的裝置,屬于半導(dǎo)體材料無損檢測技術(shù)領(lǐng)域。該裝置中,N束激光的多路出射光是由一個(gè)激光器經(jīng)過一個(gè)包含多個(gè)分光面的分光棱鏡,通過給所述多個(gè)分光面賦予差異化的反射率和透射率,使得經(jīng)過該分光棱鏡后射出的多路出射光光強(qiáng)相同,即該多路光強(qiáng)相同的出射光不是由多個(gè)激光器發(fā)射得到的,而是僅僅由一個(gè)激光器經(jīng)過該分光棱鏡的反射、折射得到的,由此,在有限的布置空間內(nèi),可以選用體積稍大的激光器,當(dāng)激光器體積增大后,其內(nèi)部散熱性能改善,并且,由于該激光器內(nèi)增設(shè)了反饋電路,可以根據(jù)需要改變激光器的內(nèi)部參數(shù),因此,能夠增強(qiáng)激光器的輸出功率和波長的穩(wěn)定性。
      聲明:
      “自動檢測晶片基底二維形貌的裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
      我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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