久久看看永久视频,日日狠狠久久偷偷色,亚洲中文字幕在线网,午夜福利院中文字幕

  • <dfn id="vuqxj"><td id="vuqxj"></td></dfn>
  • <dfn id="vuqxj"></dfn>

    1. <div id="vuqxj"><option id="vuqxj"><b id="vuqxj"></b></option></div>
    2. 合肥金星智控科技股份有限公司
      宣傳

      位置:中冶有色 >

      有色技術頻道 >

      > 失效分析技術

      > 用于半導體工藝后段制程的聚合物殘留去除方法

      用于半導體工藝后段制程的聚合物殘留去除方法

      1127   編輯:管理員   來源:中冶有色技術網  
      2023-03-19 09:01:44
      一種在半導體工藝后段制程中用于清除介電層刻蝕后殘留在硅片上的聚合物的方法。現有的去膠方法存在聚合物無法徹底清除,造成出貨鏡檢失效率超標的問題。本發(fā)明的用于半導體工藝后段制程的聚合物殘留去除方法,包括下列步驟:(1)對刻蝕后的硅片進行干法去膠;(2)對經過步驟(1)處理的硅片進行濕法清洗;于步驟(2)之后再作一步干法去膠步驟。利用本發(fā)明的聚合物殘留去除方法,可使出貨鏡檢失效率降為零,并達到幾乎不增加成本而提高良率的有益效果。適用于壓點、通孔、接觸孔等容易形成聚合物殘留的集成電路結構。
      聲明:
      “用于半導體工藝后段制程的聚合物殘留去除方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
      我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
      分享 0
               
      舉報 0
      收藏 0
      反對 0
      點贊 0
      標簽:
      失效分析
      全國熱門有色金屬技術推薦
      展開更多 +

       

      中冶有色技術平臺微信公眾號
      了解更多信息請您掃碼關注官方微信
      中冶有色技術平臺微信公眾號中冶有色技術平臺

      最新更新技術

      報名參會
      更多+

      報告下載

      第二屆中國微細粒礦物選礦技術大會
      推廣

      熱門技術
      更多+

      衡水宏運壓濾機有限公司
      宣傳
      環(huán)磨科技控股(集團)有限公司
      宣傳

      發(fā)布

      在線客服

      公眾號

      電話

      頂部
      咨詢電話:
      010-88793500-807
      專利人/作者信息登記