權(quán)利要求書(shū): 1.一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,包括底座(1)、支撐柱(2)和橫柱(3),其特征在于:所述底座(1)的下端面上設(shè)有若干個(gè)滑輪(4),所述支撐柱(2)垂設(shè)在底座(1)的一側(cè)上,所述橫柱(3)的一端設(shè)在支撐柱(2)的上端,的另一端設(shè)有探頭組件(5),所述底座(1)上設(shè)有射線口(11),所述射線口(11)的上端口處設(shè)有定位板(6),所述定位板(6)上開(kāi)設(shè)有與射線口(11)連通的導(dǎo)孔(61),所述導(dǎo)孔(61)設(shè)有防護(hù)透鏡(7),導(dǎo)孔(61)的上端口處設(shè)有凹位(611),所述凹位(611)上設(shè)有密封環(huán)槽(612),所述防護(hù)透鏡(7)設(shè)有與凹位(611)銜接的凸位(71),所述凸位(71)上設(shè)有緊貼于密封環(huán)槽(612)的密封環(huán)凸(72)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,其特征在于:所述定位板(6)的兩側(cè)分別設(shè)有第一平臺(tái)(8)和第二平臺(tái)(9),且第一平臺(tái)(8)和第二平臺(tái)(9)的高度大于定位板(6)的高度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,其特征在于:所述防護(hù)透鏡(7)設(shè)有螺接部(73),所述螺接部(73)與導(dǎo)孔(61)相螺接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,其特征在于:所述橫柱(3)與底座(1)相平行。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,其特征在于:所述底座(1)靠近支撐柱(2)的一端設(shè)有推拉板(12),且推拉板(12)與支撐柱(2)之間的底座(1)上預(yù)留有置空位(10)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,其特征在于:所述探頭組件(5)包括防護(hù)柱體(51)、防護(hù)蓋板(52)和防護(hù)插板(53),所述防護(hù)柱體(51)焊接在橫柱(3)上,防護(hù)柱體(51)與橫柱(3)之間設(shè)有連通的導(dǎo)線口(20),所述防護(hù)蓋板(52)與防護(hù)柱體(51)的上端口螺接,所述防護(hù)柱體(51)的下端口設(shè)有對(duì)稱的卡位凸(511),所述防護(hù)插板(53)設(shè)有與卡位凸(511)對(duì)應(yīng)的卡接槽(531)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,其特征在于:所述卡位凸(511)和卡接槽(531)的截面均呈“T”字型。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,其特征在于:所述防護(hù)柱體(51)上設(shè)有扶手(30)。
說(shuō)明書(shū): 一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本實(shí)用新型涉及測(cè)厚儀定位架技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架。
背景技術(shù)[0002] X射線測(cè)厚儀適用于各種金屬板帶材料的冷加工過(guò)程中的在線厚度測(cè)量,采取非接觸式測(cè)量方式,主要用于產(chǎn)品質(zhì)量檢測(cè)和質(zhì)量分析。X射線測(cè)厚儀可以獨(dú)立運(yùn)行,給出板
材厚度實(shí)時(shí)測(cè)量值,也可以接收外部控制系統(tǒng)給出的目標(biāo)厚度值,同時(shí)對(duì)外輸出厚度測(cè)量
值與標(biāo)準(zhǔn)厚度值的差值。
[0003] 其中主要部件如放射源、電離室、探測(cè)器、放大器等都安裝在定位架內(nèi),生產(chǎn)時(shí)定位架開(kāi)進(jìn)軋機(jī)內(nèi)部,檢修時(shí)再?gòu)能垯C(jī)內(nèi)部開(kāi)出,打開(kāi)定位架對(duì)元器件進(jìn)行維護(hù)或更換,原來(lái)
的定位架是由一個(gè)電機(jī)驅(qū)動(dòng)在軌道上移動(dòng),電機(jī)停止后定位架應(yīng)該靜止在軌道上,但是由
于現(xiàn)場(chǎng)環(huán)境惡劣,油污、煙塵、水汽等雜質(zhì)容易滲入定位架內(nèi),影響主要部件的正常使用。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004] 本實(shí)用新型的主要目的是提供一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,避免了雜質(zhì)容易滲入定位架內(nèi),影響主要部件的正常使用。
[0005] 為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提出一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,包括底座、支撐柱和橫柱,所述底座的下端面上設(shè)有若干個(gè)滑輪,所述支撐柱垂設(shè)在底座的一側(cè)上,所述
橫柱的一端設(shè)在支撐柱的上端,的另一端設(shè)有探頭組件,所述底座上設(shè)有射線口,所述射線
口的上端口處設(shè)有定位板,所述定位板上開(kāi)設(shè)有與射線口連通的導(dǎo)孔,所述導(dǎo)孔設(shè)有防護(hù)
透鏡,導(dǎo)孔的上端口處設(shè)有凹位,所述凹位上設(shè)有密封環(huán)槽,所述防護(hù)透鏡設(shè)有與凹位銜接
的凸位,所述凸位上設(shè)有緊貼于密封環(huán)槽的密封環(huán)凸。
[0006] 優(yōu)選地,所述定位板的兩側(cè)分別設(shè)有第一平臺(tái)和第二平臺(tái),且第一平臺(tái)和第二平臺(tái)的高度大于定位板的高度。
[0007] 優(yōu)選地,所述防護(hù)透鏡設(shè)有螺接部,所述螺接部與導(dǎo)孔相螺接。[0008] 優(yōu)選地,所述橫柱與底座相平行。[0009] 優(yōu)選地,所述底座靠近支撐柱的一端設(shè)有推拉板,且推拉板與支撐柱之間的底座上預(yù)留有置空位。
[0010] 優(yōu)選地,所述探頭組件包括防護(hù)柱體、防護(hù)蓋板和防護(hù)插板,所述防護(hù)柱體焊接在橫柱上,防護(hù)柱體與橫柱之間設(shè)有連通的導(dǎo)線口,所述防護(hù)蓋板與防護(hù)柱體的上端口螺接,
所述防護(hù)柱體的下端口設(shè)有對(duì)稱的卡位凸,所述防護(hù)插板設(shè)有與卡位凸對(duì)應(yīng)的卡接槽。
[0011] 優(yōu)選地,所述卡位凸和卡接槽的截面均呈“T”字型。[0012] 優(yōu)選地,所述防護(hù)柱體上設(shè)有扶手。[0013] 有益效果:[0014] 1.通過(guò)在射線口的上端口處設(shè)置定位板,并在定位板上設(shè)置密封的防護(hù)透鏡,有效避免了雜質(zhì)從射線口滲入底座內(nèi),且便于將防護(hù)透鏡取出進(jìn)行清洗或者更換,操作簡(jiǎn)單
便捷;
[0015] 2.定位板的兩側(cè)分別設(shè)有第一平臺(tái)和第二平臺(tái),通過(guò)第一平臺(tái)和第二平臺(tái)支撐金屬板帶材料,避免金屬板帶材料磕碰到防護(hù)透鏡,加強(qiáng)了對(duì)防護(hù)透鏡的保護(hù)。
附圖說(shuō)明[0016] 圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例的爆炸結(jié)構(gòu)示意圖;[0017] 圖2為圖1中A部分的局部放大圖;[0018] 圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例中防護(hù)透鏡的側(cè)面剖視圖;[0019] 圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例中定位板的側(cè)面剖視圖;[0020] 圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例中防護(hù)插板的側(cè)面剖視圖。[0021] 附圖標(biāo)號(hào)說(shuō)明:1?底座,2?支撐柱,3?橫柱,4?滑輪,5?探頭組件,6?定位板,7?防護(hù)透鏡,8?第一平臺(tái),9?第二平臺(tái),10?置空位,11?射線口,12?推拉板,20?導(dǎo)線口,51?防護(hù)柱
體,52?防護(hù)蓋板,53?防護(hù)插板,61?導(dǎo)孔,71?凸位,72?密封環(huán)凸,73?螺接部,511?卡位凸,
531?卡接槽,30?扶手,611?凹位,612?密封環(huán)槽。
具體實(shí)施方式[0022] 下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例,而不是全部
的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提
下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0023] 需要說(shuō)明,若本實(shí)用新型實(shí)施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述,則該“第一”、“第二”等的描述僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示其相對(duì)重要性或者隱含指明所
指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少
一個(gè)該特征。
[0024] 下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的,旨在用于解釋本實(shí)用新型,而不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。在本實(shí)用新型的描述中,需要理解的是,術(shù)語(yǔ)“上”、“下”等指
示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本實(shí)用新型和
簡(jiǎn)化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造
和操作,因此不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。
[0025] 實(shí)施例:[0026] 請(qǐng)參閱圖1至圖5,本實(shí)施例提供一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,包括底座1、支撐柱2和橫柱3,底座1的下端面上設(shè)有若干個(gè)滑輪4,支撐柱2垂設(shè)在底座1的一側(cè)上,橫柱3的
一端設(shè)在支撐柱2的上端,的另一端設(shè)有探頭組件5,底座1上設(shè)有射線口11,在實(shí)際安裝過(guò)
程中,放射源安裝在底座內(nèi),X射線從射線口11射出,射線口11的上端口處設(shè)有定位板6,如
圖2所示,定位板6的底部設(shè)有延伸凸起,定位板6通過(guò)延伸凸起與射線口11的上端口緊密貼
合在一起,定位板6上開(kāi)設(shè)有與射線口11連通的導(dǎo)孔61,導(dǎo)孔61設(shè)有防護(hù)透鏡7,導(dǎo)孔61的上
端口處設(shè)有凹位611,凹位611上設(shè)有密封環(huán)槽612,防護(hù)透鏡7設(shè)有與凹位611銜接的凸位
71,凸位71上設(shè)有緊貼于密封環(huán)槽612的密封環(huán)凸72,通過(guò)在射線口11的上端口處設(shè)置定位
板6,并在定位板6上設(shè)置密封的防護(hù)透鏡7,有效避免雜質(zhì)從射線口11滲入底座1內(nèi),且便于
將防護(hù)透鏡7取出進(jìn)行清洗或者更換,大大提高了本申請(qǐng)使用的便捷性。
[0027] 具體地,定位板6的兩側(cè)分別設(shè)有第一平臺(tái)8和第二平臺(tái)9,且第一平臺(tái)8和第二平臺(tái)9的高度大于定位板6的高度,在實(shí)際使用過(guò)程中,通過(guò)第一平臺(tái)8和第二平臺(tái)9支撐金屬
板帶材料,避免金屬板帶材料磕碰到防護(hù)透鏡7,加強(qiáng)了對(duì)防護(hù)透鏡7的保護(hù),且如圖1所示,
第一平臺(tái)8靠近定位板6的一端設(shè)有導(dǎo)向切面,提高了取出防護(hù)透鏡7的便捷性。
[0028] 具體地,防護(hù)透鏡7設(shè)有螺接部73,螺接部73與導(dǎo)孔61相螺接,提高了防護(hù)透鏡7在定位板6上的穩(wěn)固性。
[0029] 需要說(shuō)明的是,橫柱3與底座1相平行,提高了橫柱3的平穩(wěn)性。[0030] 還需要說(shuō)明的是,底座1靠近支撐柱2的一端設(shè)有推拉板12,且推拉板12與支撐柱2之間的底座1上預(yù)留有置空位10,便于通過(guò)推拉板12移動(dòng)底座1,提高移動(dòng)底座的便捷性。
[0031] 進(jìn)一步地,探頭組件5包括防護(hù)柱體51、防護(hù)蓋板52和防護(hù)插板53,防護(hù)柱體51焊接在橫柱3上,防護(hù)柱體51與橫柱3之間設(shè)有連通的導(dǎo)線口20,防護(hù)蓋板52與防護(hù)柱體51的
上端口螺接,防護(hù)柱體51的下端口設(shè)有對(duì)稱的卡位凸511,防護(hù)插板53設(shè)有與卡位凸511對(duì)
應(yīng)的卡接槽531,在實(shí)際安裝過(guò)程中,防護(hù)蓋板52從側(cè)面插入防護(hù)柱體51的下端口,通過(guò)防
護(hù)蓋板52封鎖防護(hù)柱體51的下端口,進(jìn)一步避免雜質(zhì)從防護(hù)柱體51的下端口進(jìn)入防護(hù)柱體
51。
[0032] 進(jìn)一步地,如圖1和圖5所示,卡位凸511和卡接槽531的截面均呈“T”字型,提高了卡位凸511和卡接槽531接合的緊密性。
[0033] 更進(jìn)一步地,防護(hù)柱體51上設(shè)有扶手30,通過(guò)扶手30手動(dòng)拉動(dòng)底座1,可省去麻煩的液壓油缸或壓縮氣缸推動(dòng),更具靈活性。
[0034] 以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例,并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍,凡是在本實(shí)用新型的構(gòu)思下,利用本實(shí)用新型說(shuō)明書(shū)及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換,或
直接/間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域均包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
聲明:
“用于X射線測(cè)厚儀的定位架” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)