本發(fā)明公開了一種半圓筒型調(diào)壓室,設(shè)置在引水洞或尾水洞上方,靠近主廠房處,包括帶穹頂?shù)亩瓷?,所述洞身橫截面為矩形的三邊與弧形合圍而成的組合圖形,所述洞身底部設(shè)置有阻抗板,所述洞身底部阻抗板上有用于連通引水洞或尾水洞的阻抗孔,所述洞身內(nèi)設(shè)置有若干個閘門井,所述閘門井設(shè)置有用于截斷引水洞或者尾水洞水流的閘門,所述閘門井自下而上延伸至洞身頂部,所述洞身頂部還設(shè)置有閘門操作廊道,所述閘門操作廊道垂直于洞身并與洞身相通。半圓筒型調(diào)壓室可以更好地適應(yīng)復(fù)雜的地質(zhì)條件,有利于洞室圍巖的穩(wěn)定,且調(diào)壓室弧形襯砌結(jié)構(gòu)具備較好的受力條件。
聲明:
“半圓筒型調(diào)壓室” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)