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       > 具有光穩(wěn)性聚合物終點檢測窗的化學機械拋光墊及相應的拋光方法
      
		
      
	
      

	
      
		
      
			
      
				
      
					
      具有光穩(wěn)性聚合物終點檢測窗的化學機械拋光墊及相應的拋光方法
      
					
      
					     1067  
					    編輯：管理員  
						來源：中冶有色技術網(wǎng)  
						
      
							2023-03-19 06:38:42						
      
					
      
				
      
				
      
				    本發(fā)明提供一種化學機械拋光墊，包括：具有拋光表面的拋光層；和光穩(wěn)性聚合物終點檢測窗，該檢測窗包括含有氨基部分的芳香聚胺與異氰酸酯封端、含有未反應-NCO部分的預聚多元醇進行聚氨酯反應的產(chǎn)物，以及包括至少一種UV吸收劑和受阻胺光穩(wěn)定劑的光穩(wěn)定劑成分；其中以＜95％的氨基部分與未反應-NCO部分的化學計量比來提供芳香聚胺和異氰酸酯封端的預聚多元醇；其中光穩(wěn)性聚合物終點檢測窗在持續(xù)等軸拉伸載荷為1kPa、60。℃恒溫100分鐘時測定具有≤0.02％的依時應變并且在380納米的波長下對于1.3mm的窗厚度具有≥15％的雙光通量；并且，其中拋光表面適用于拋光選自磁性基材、光學基材和半導體基材的基板。此外，本發(fā)明還提供了使用本發(fā)明的化學機械拋光墊拋光基材(優(yōu)選半導體晶片)的方法。				    
      
				        
      聲明：
      
				        
      
				         “具有光穩(wěn)性聚合物終點檢測窗的化學機械拋光墊及相應的拋光方法” 該技術專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。
				        
      
				        
      
				        我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
				        
      
				    
      
				
      
				
				
      
					
      
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      標簽：
      
					 
					化學分析
									
      
				
				
				
				
								
								
				
				
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