本申請?zhí)峁┝艘环N
電化學裝置和電子裝置,其包括負極極片,負極極片包括
負極材料層,負極材料層包括負極活性材料,負極活性材料包括石墨,其中,滿足(d1/d2?1)×100%≤0.56%,3.3600≤d1≤3.3720;其中,為采用X射線衍射儀測試,將所述負極材料層進行燒結處理得到的所述負極活性材料的(002)晶面的晶面間距;為采用X射線衍射儀測試,所述負極材料層中的負極活性材料的(002)晶面的晶面間距。本申請?zhí)峁┑碾娀瘜W裝置的負極極片在循環(huán)過程中具有低的膨脹率,從而電化學裝置在循環(huán)過程中也具有低的膨脹率。
聲明:
“電化學裝置和電子裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)