本發(fā)明涉及一種化學(xué)機械拋光墊的修整設(shè)備的結(jié)構(gòu)及其制造方法。這套設(shè)備包括帶螺紋通孔的修整盤底座、帶不同直徑或密度磨粒的基柱、水平測定盤、連桿和懸臂。修整盤表面由四個研磨單元構(gòu)成,每個研磨單元又由多個基柱構(gòu)成,每個基柱上面有磨粒。帶磨粒的基柱可以旋入底座的通孔,并可調(diào)節(jié)露出磨料最高點的高低程度。磨粒由
電化學(xué)方法固定在基柱表面。整個修整盤的磨粒高度可由一個水平測定盤測定后,才可應(yīng)用到拋光墊的修整操作。此修整盤可以通過不同的基柱的組合,調(diào)節(jié)盤中磨粒的密度、磨粒的直徑的分布,控制修整盤對拋光墊的拋光速率與磨損程度,可以有效地修整拋光墊。
聲明:
“化學(xué)機械拋光墊的修整設(shè)備的結(jié)構(gòu)及其制造方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)