一種氧化物的刻蝕工藝的監(jiān)測(cè)方法,所述方法包括:提供半導(dǎo)體襯底,所述半導(dǎo)體襯底的表面形成有氧化物;刻蝕去除所述氧化物的至少一部分;采用化學(xué)溶液清洗所述半導(dǎo)體襯底的表面,所述化學(xué)溶液能夠與所述半導(dǎo)體襯底反應(yīng),而未能與所述氧化物反應(yīng);檢測(cè)清洗后的半導(dǎo)體襯底的表面,以確定是否存在殘留的氧化物。本發(fā)明方案可以更準(zhǔn)確地檢測(cè)到氧化物刻蝕缺陷,從而及時(shí)地確認(rèn)刻蝕工藝的異常狀況,有助于保證產(chǎn)品良率。
聲明:
“氧化物的刻蝕工藝的監(jiān)測(cè)方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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