一種用于測量催化劑粉體活性位濃度的設(shè)備和方法,屬于催化劑表征的技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明的特征是選擇性地測量暴露表面的具有催化活性的活性位濃度,而區(qū)別于測量催化劑粉體的總暴露原子濃度。測量使用表面物種濃度低于活性位濃度,而且使用小于1秒的短暫吸附時間,從而摒除了吸附較慢且不起任何催化作用的弱吸附位。測量結(jié)果具有更高精確度,原因是:(1)使用反應(yīng)氣體在有反應(yīng)的條件下進(jìn)行測量,直接針對對反應(yīng)氣體有催化作用的活性位;(2)活性位濃度用吸附速率的化學(xué)動力學(xué)公式推導(dǎo),替代了以往用非動力學(xué)條件下測量的總表面積,因為總表面積不一定與吸附化學(xué)動力學(xué)公式中的活性位濃度相同。
聲明:
“測量催化劑粉體活性位濃度的設(shè)備和方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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