本發(fā)明公開了一種無掩膜版的圖案化薄膜制備方法。本發(fā)明采用激光直寫將鍍膜材料鍍于預(yù)處理后的待鍍基底上,得到圖案化薄膜。當(dāng)待鍍基底位于鍍膜材料的上方時,鍍膜材料上放上待鍍基底,按照設(shè)定的圖形激光照射,激光透過待鍍基底,打在片狀/塊狀鍍膜材料上,被打到的鍍膜材料形成材料的團簇,濺射到待鍍基底上。當(dāng)待鍍基底位于鍍膜材料的下方時,在待鍍基底上放上鍍膜材料,按照設(shè)定的圖形激光照射,激光打到鍍膜材料上,并穿透鍍膜材料,該鍍膜材料作為鍍膜源形成材料的團簇,濺射到待鍍基底上。本發(fā)明的方法不使用掩膜版,簡單實用,成本低廉,并且可以簡單的做到各種尺寸和材質(zhì)基底的圖案化鍍膜。
聲明:
“無掩膜版的圖案化薄膜制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)