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      熒光共軛寡聚物二氧化硅復(fù)合納米粒子在潛指紋顯影中的應(yīng)用方法

      882   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
      2023-03-19 08:04:03
      本發(fā)明屬于復(fù)合納米粒子應(yīng)用領(lǐng)域,涉及熒光共軛寡聚物二氧化硅復(fù)合納米粒子在潛指紋顯影方面的應(yīng)用方法。本發(fā)明利用反向膠束的方法制備熒光共軛寡聚物二氧化硅復(fù)合納米粒子,冷凍干燥成粉末,置于不同材質(zhì)的潛指紋上,用氣流除去多余的復(fù)合納米粒子,在一定波長的光源照射下使用相機(jī)進(jìn)行成像,得到具有高分辨率的指紋影像,可以清晰的看到指紋中的分叉、終端等細(xì)節(jié)。該熒光共軛寡聚物二氧化硅復(fù)合納米粒子應(yīng)用于潛指紋顯影方面具有操作簡便快捷,光化學(xué)穩(wěn)定性好,熒光強(qiáng)度高等優(yōu)點(diǎn),能夠進(jìn)一步改善潛指紋的檢測限度。
      聲明:
      “熒光共軛寡聚物二氧化硅復(fù)合納米粒子在潛指紋顯影中的應(yīng)用方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
      我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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