本發(fā)明公開了一種具有納米結構的非晶氧化物半導體薄膜,該薄膜包括連續(xù)薄膜層和納米結構層,連續(xù)薄膜層直接生長在襯底上;納米結構層為連續(xù)薄膜層的縱向自然延伸,呈現(xiàn)間隔分布的凸起峰和凹陷坑。該薄膜為非晶氧化物半導體ZnTiSnO薄膜。本發(fā)明還公開了該薄膜的制備方法,采用溶液化學方法,步驟包括將Zn(NO3)2·6H2O、SnCl2·2H2O+NH4NO3及C12H28O4Ti+NH4NO3分別溶解于二甲氧基乙醇溶劑中,分別加入乙酰丙酮、氨水溶液配成前驅體溶液,配得溶膠,然后旋涂于襯底上,并退火處理。該非晶氧化物半導體薄膜因為具有納米結構,具有大的比表面積,有望應用于生物傳感、氣敏、紫外探測等領域。
聲明:
“具有納米結構的非晶氧化物半導體薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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