本發(fā)明公開了一種新型的氮化鎵鎳氮空位色心及其制備方法,主要解決現(xiàn)有技術中色心制備成本高、光學激發(fā)能高、應用受限的問題。方案包括:在氮化鎵晶格中,利用鎳原子取代一個鎵原子和該鎵原子最近鄰的氮空位,原子排列呈現(xiàn)C3v對稱,且C3v對稱軸穿過鎳原子和氮空位的中心,并與三個間距相等的鎵原子所在平面相垂直;其制備方法是首先采用金屬有機化學氣相沉積法生長立方相氮化鎵薄膜,然后對其進行離子注入,摻雜特定種類的鎳離子并經(jīng)高溫退火修復晶格損傷后,通過電子輻照產(chǎn)生大量單個空位,隨后再快速退火。本發(fā)明能夠有效降低操作色心需要的光學激發(fā)能,減少色心制備成本,可廣泛應用于測量、通信、仿真、高性能計算等領域。
聲明:
“新型的氮化鎵鎳氮空位色心及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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