本發(fā)明提供了一種基板處理設(shè)備。所述基板處理設(shè)備包括:液體處理腔室,所述液體處理腔室被配置為利用液體處理基板;干燥腔室,所述干燥腔室被配置為干燥經(jīng)液體處理的基板;傳送機(jī)器人,所述傳送機(jī)器人被配置為在所述液體處理腔室與所述干燥腔室之間傳送所述基板,并且包括能夠沿X軸、Y軸和Z軸移動(dòng)并且基于所述Z軸可旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動(dòng)的手部,并且所述基板放置在所述手部上;光學(xué)系統(tǒng),所述光學(xué)系統(tǒng)被配置為拍攝所述基板的液膜的形態(tài),其中當(dāng)所述基板從所述液體處理腔室傳送到所述干燥腔室時(shí),所述基板用化學(xué)液體潤濕并且在形成液膜的狀態(tài)下由所述傳送機(jī)器人傳送;以及控制器,所述控制器被配置為測量由所述光學(xué)系統(tǒng)拍攝的所述液膜的所述形態(tài)。
聲明:
“基板處理設(shè)備和基板傳送機(jī)器人” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)