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      CMP拋光墊調(diào)節(jié)器
      
					
      
					     955  
					    編輯：管理員  
						來源：中冶有色技術網(wǎng)  
						
      
							2023-03-19 08:56:57						
      
					
      
				
      
				
      
				    本發(fā)明提供一種處理化學機械拋光CMP墊調(diào)節(jié)器的方法，其包含：提供包含調(diào)節(jié)器襯底和漿料的所述CMP墊調(diào)節(jié)器，所述調(diào)節(jié)器襯底是具有接合到所述調(diào)節(jié)器襯底的頂面且維氏硬度大于3,000Kg/mm2的多個硬調(diào)節(jié)器粒子的金屬、陶瓷或金屬?陶瓷材料，所述漿料包含含水介質(zhì)和多個具有大于3,000Kg/mm2的硬度的硬漿料粒子。在CMP設備中使用拋光墊拋光所述墊調(diào)節(jié)器的表面。在所述拋光之后，每一調(diào)節(jié)器粒子具有至少一個暴露刻面，且所述多個硬調(diào)節(jié)器粒子具有20微米的最大平均突起部到突起部平坦度PPF差和通過切割邊緣半徑CER的值測量的最銳利邊緣，所述最銳利邊緣對于至少80％的所述刻面處于所述刻面的邊緣處。				    
      
				        
      聲明：
      
				        
      
				         “CMP拋光墊調(diào)節(jié)器” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。
				        
      
				        
      
				        我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
				        
      
				    
      
				
      
				
				
      
					
      
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      標簽：
      
					 
					化學分析
									
      
				
				
				
				
								
								
				
				
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