本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種TEM樣品的制備方法,利用在不同工藝下沉積的同類材質(zhì)在化學(xué)刻蝕工藝中刻蝕速率的不同,在刻蝕較快的材料區(qū)域填入少量的金屬作為染色材料,從而在TEM觀測時可以利用材質(zhì)襯度的不同將這些材料很好地區(qū)分開,同時也能具有TEM的高分辨率的優(yōu)點。
聲明:
“TEM樣品的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)