本發(fā)明涉及光盤表面覆膜方法,在光盤上沉積耐酸堿類金剛石薄膜的方法,利用中低頻介質(zhì)阻擋高壓放電,使用小分子碳?xì)錃怏w,在較低氣壓條件下,以光盤作為沉積基底,在光盤表面沉積超硬類金剛石薄膜。本發(fā)明利用介質(zhì)阻擋放電等離子體沉積薄膜,具有其獨特的優(yōu)勢:如放電方式簡單,能耗低,氣體流量低,可實現(xiàn)在絕緣介質(zhì)上沉積。薄膜對于光驅(qū)工作讀寫激光波長在藍(lán)光和紅光均具有>90%以上透過性。對于鍍膜后的光盤進行讀寫測試,發(fā)現(xiàn)薄膜對于光盤正常工作不產(chǎn)生任何影響。本發(fā)明有效的提高光盤表面的化學(xué)穩(wěn)定性和機械性能,鍍膜后的光盤具有很好的耐酸堿特性。
聲明:
“在光盤表面沉積耐酸堿類金剛石薄膜的裝置和方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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