一種清潔系統(tǒng),包括至少一清潔模塊,配置以在一化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)制程之后接收一基板,并且使用一清潔溶液去除在基板上的多個(gè)污染物。清潔系統(tǒng)還包括一清潔溶液供給系統(tǒng),配置以將清潔溶液供給到至少一清潔模塊。清潔溶液供給系統(tǒng)包括至少一溫度控制系統(tǒng)。至少一溫度控制系統(tǒng)包括:一加熱裝置,配置以加熱清潔溶液、一冷卻裝置,配置以冷卻清潔溶液、一溫度感應(yīng)器,配置以監(jiān)測(cè)清潔溶液的一溫度、以及一溫度控制器,配置以控制加熱裝置及冷卻裝置。
聲明:
“清潔系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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