該實用新型公開了一種用于半導體加工設備的吸收罩及半導體加工設備,所述吸收罩內形成有操作腔,所述吸收罩的底部設有罩設口,用于罩設于機臺上,所述吸收罩還設有連通所述操作腔與外界的吸氣口和操作口,所述吸氣口用于連接吸氣管道,所述操作口用于操作者的手伸入所述操作腔內。根據本實用新型的用于半導體加工設備的吸收罩,能夠避免由于化學品揮發(fā)導致的氣體偵測器誤報警,以降低工作人員的工作負荷。
聲明:
“用于半導體加工設備的吸收罩及半導體加工設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)