本發(fā)明實施例提供了一種流體動壓拋光方法及裝置。所述裝置包括氣囊拋光工具、精密測力臺、精密位移臺以及拋光液供給系統(tǒng)。所述氣囊拋光工具使用前需經(jīng)過精密修整;精密測力臺與精密位移臺配合實現(xiàn)氣囊拋光工具與工件間的間隙精密控制;拋光時,拋光液注入拋光墊與工件的間隙后,氣囊拋光工具高速旋轉(zhuǎn)帶動拋光液在氣囊與工件間產(chǎn)生流體動壓,進(jìn)而實現(xiàn)間隙中的拋光顆粒以一定速度和壓力對工件表面進(jìn)行去除。本發(fā)明實施例提出的流體動壓拋光方法及裝置可實現(xiàn)通過控制工藝參數(shù)(如間隙、轉(zhuǎn)速、拋光顆粒大小)改變材料去除量,以滿足工件不同工藝目的下的效率需求。所述裝置在超精密光學(xué)元件上實現(xiàn)納米級精度的無損傷加工方面具有重要的應(yīng)用前景。
聲明:
“流體動壓拋光方法及裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)