本申請實施例公開了一種透射電鏡試樣及其制備方法、待測結構的失效分析方法,其中,所述透射電鏡試樣的制備方法包括:在待測結構中確定測試區(qū)域;在測試區(qū)域中確定待分析結構和待去除結構,所述待分析結構沿第一方向的兩端分別與所述測試區(qū)域的邊緣具有第一預設距離,所述待去除結構位于所述待分析結構沿第二方向的投影區(qū)域內,所述待分析結構朝向所述第二方向的側面與所述待去除結構接觸,所述第一方向與所述第二方向之間的夾角大于0°且小于180°;去除所述待去除結構,并保留在第一方向上位于所述待去除結構兩側的至少部分所述測試區(qū)域作為支撐結構,得到透射電鏡試樣,其中,所述支撐結構與所述待分析結構形成一體成型的至少一個U型支架。
聲明:
“透射電鏡試樣及其制備方法、待測結構的失效分析方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)