一種改進的真空鍍膜設(shè)備,包括真空腔室、設(shè)置于所述真空腔室內(nèi)的鍍膜機構(gòu),所述真空腔室外連接有用于進行鍍膜過程的供氣機構(gòu)和用于測量所述真空腔室內(nèi)真空度的真空檢測機構(gòu),所述真空檢測機構(gòu)包括真空計,所述真空計與所述真空腔室之間連通有檢測管,所述檢測管包括與所述真空腔室連通的水平段和一端與所述水平段連通而另一端與所述真空計連通的豎直段;所述水平段中部還設(shè)有濾塵通道,所述豎直段上還設(shè)有防塵裝置。本實用新型結(jié)構(gòu)緊湊、使用方便,有效阻止所述真空腔室產(chǎn)生的揚塵通過管道滲入進所述真空計中,避免所述真空計誤判或失效,延長了所述真空計的使用壽命,降低運維成本,使設(shè)備正常運轉(zhuǎn)。
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“改進的真空鍍膜設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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